基板处理方法以及基板处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880008230.9

申请日：

2018-01-16

公开(公告)号：

CN110214365A

公开(公告)日：

2019-09-06

发明(设计)人：

樋口鲇美岩崎晃久

申请人：

申请人地址：

日本京都府

IPC主分类号：

H01L21304

IPC分类号：

代理机构：

隆天知识产权代理有限公司 72003

代理人：

宋晓宝;向勇

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-10-08	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/304 申请日:20180116
2019-09-06	公开	公开

共 50 条

[1]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

谷泽成规 ;

宫路信行 ;

髙冈诚 ;

泽崎尚树 ;

奥村刚 ;

三浦淳靖 .

中国专利 :CN109427548A ,2019-03-05

[2]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

阿部博史 ;

太田乔 ;

石津岳明 ;

小林健司 ;

村元僚 ;

根来世 ;

奥谷学 ;

酒井渉 .

日本专利 :CN113053728B ,2024-08-27

[3]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

阿部博史 ;

太田乔 ;

石津岳明 ;

小林健司 ;

村元僚 ;

根来世 ;

奥谷学 ;

酒井渉 .

中国专利 :CN113053728A ,2021-06-29

[4]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

大泽瑞树 ;

戎居博志 .

日本专利 :CN111052315B ,2024-02-20

[5]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

大泽瑞树 ;

戎居博志 .

中国专利 :CN111052315A ,2020-04-21

[6]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

藤原友则 ;

柴山宣之 ;

吉田幸史 ;

柴田哲弥 ;

仲野彰义 .

中国专利 :CN104992912A ,2015-10-21

[7]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

吉田幸史 ;

奥谷学 ;

阿部博史 ;

安田周一 ;

金松泰范 ;

中井仁司 .

中国专利 :CN109872960A ,2019-06-11

[8]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

高桥朋宏 ;

岸田拓也 ;

折坂昌幸 ;

武知圭 .

中国专利 :CN114902380A ,2022-08-12

[9]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

吉富大地 ;

井上一树 ;

岩见优树 ;

石井弘晃 .

中国专利 :CN110660647A ,2020-01-07

[10]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

藤原友则 ;

柴山宣之 ;

吉田幸史 ;

柴田哲弥 ;

仲野彰义 .

中国专利 :CN110690146A ,2020-01-14

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