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等离子体处理装置和等离子体控制方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201110235895.3
申请日
:
2011-08-11
公开(公告)号
:
CN102376521A
公开(公告)日
:
2012-03-14
发明(设计)人
:
輿水地盐
传宝一树
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
H05H146
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
:
龙淳
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2012-04-25
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101231929501 IPC(主分类):H01J 37/32 专利申请号:2011102358953 申请日:20110811
2012-03-14
公开
公开
2015-04-22
授权
授权
共 50 条
[1]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
东条利洋
论文数:
0
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0
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0
东条利洋
;
藤井祐希
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藤井祐希
.
中国专利
:CN107275179A
,2017-10-20
[2]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
岸宏树
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0
岸宏树
;
徐智洙
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徐智洙
.
中国专利
:CN106920733B
,2017-07-04
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
岩田学
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岩田学
;
中山博之
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中山博之
;
增泽健二
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增泽健二
;
本田昌伸
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本田昌伸
.
中国专利
:CN101515545B
,2009-08-26
[4]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
王汤贵
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
王汤贵
;
大石哲也
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
大石哲也
;
浦川理史
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
浦川理史
;
森北信也
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
森北信也
.
日本专利
:CN119522474A
,2025-02-25
[5]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
丸山幸儿
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丸山幸儿
;
堀口将人
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堀口将人
;
松木哲理
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松木哲理
;
舆石公
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舆石公
.
中国专利
:CN105379428B
,2016-03-02
[6]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
松本直树
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松本直树
;
早川欣延
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早川欣延
;
花冈秀敏
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花冈秀敏
;
儿玉法明
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儿玉法明
;
舆水地盐
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舆水地盐
;
岩田学
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岩田学
;
田中谕志
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田中谕志
.
中国专利
:CN101047113A
,2007-10-03
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
木原嘉英
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木原嘉英
;
本田昌伸
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本田昌伸
;
久松亨
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0
久松亨
.
中国专利
:CN105316639B
,2016-02-10
[8]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
本田昌伸
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0
本田昌伸
.
中国专利
:CN102209426B
,2011-10-05
[9]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
贝岛祥
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贝岛祥
.
中国专利
:CN115440563A
,2022-12-06
[10]
等离子体处理装置和等离子体产生装置
[P].
加藤寿
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加藤寿
;
三浦繁博
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三浦繁博
.
中国专利
:CN103805968A
,2014-05-21
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