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一种多层共挤制备光学基片的方法以及一种光学基片
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010190871.X
申请日：
2020-03-18
公开(公告)号：
CN111370557A
公开(公告)日：
2020-07-03
发明(设计)人：
王建伟
齐航
申请人：
申请人地址：
243031 安徽省马鞍山市郑蒲港新区蒲建标准厂房6#
IPC主分类号：
H01L3350
IPC分类号：
H01L2715
代理机构：
北京高沃律师事务所 11569
代理人：
刘潇
法律状态：
专利申请权、专利权的转移
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-06-10 | 专利申请权、专利权的转移 | 专利权的转移 IPC(主分类):H01L 33/50 登记生效日:20220527 变更事项:专利权人 变更前权利人:厦门腾远资源应用科技开发有限公司 变更后权利人:无锡点援微晶科技有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:361000 福建省厦门市火炬高新区（翔安）产业区台湾科技企业育成中心E902A座 变更后权利人:214000 江苏省无锡市经济开发区高浪东路999号（软件研发大厦）1711室 |
| 2020-07-28 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 33/50 申请日:20200318 |
| 2021-02-23 | 授权 | 授权 |
| 2022-05-13 | 专利申请权、专利权的转移 | 专利权的转移 IPC(主分类):H01L 33/50 登记生效日:20220506 变更事项:专利权人 变更前权利人:马鞍山微晶光电材料有限公司 变更后权利人:厦门腾远资源应用科技开发有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:243031 安徽省马鞍山市郑蒲港新区蒲建标准厂房6# 变更后权利人:361000 福建省厦门市火炬高新区（翔安）产业区台湾科技企业育成中心E902A座 |
| 2020-07-03 | 公开 | 公开 |