光学基片隐形图案的制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910111753.9

申请日：

2009-05-07

公开(公告)号：

CN101551527B

公开(公告)日：

2009-10-07

发明(设计)人：

杨敏男

申请人：

申请人地址：

361022 福建省厦门市海沧区翁角路289号海投科创中心3#楼3层

IPC主分类号：

G02C702

IPC分类号：

G02C710

代理机构：

厦门市诚得知识产权代理事务所 35209

代理人：

方惠春;刘辉

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-12-02	实质审查的生效	实质审查的生效
2011-09-14	授权	授权
2009-10-07	公开	公开

共 50 条

[1]

防静电的光学基片制备方法 [P].

杨敏男 .

中国专利 :CN101550533A ,2009-10-07

[2]

光学基片镀不妨碍视线图案的制备方法 [P].

杨敏男 .

中国专利 :CN101550528A ,2009-10-07

[3]

光学基片的制作方法及光学基片 [P].

郭林 ;

唐怀 ;

伍斯中 ;

段艳松 .

中国专利 :CN115368028A ,2022-11-22

[4]

光学基片以及用于生产光学基片的方法与设备 [P].

S·鲍尔 ;

M·库尔 ;

B·温格林 ;

L·克利普 ;

B·丹尼尔齐克 .

中国专利 :CN1457327A ,2003-11-19

[5]

一种多层共挤制备光学基片的方法以及一种光学基片 [P].

王建伟 ;

齐航 .

中国专利 :CN111370557A ,2020-07-03

[6]

具有隐形图案的基材 [P].

杨敏男 .

中国专利 :CN201026773Y ,2008-02-27

[7]

具有隐形图案的基材及其加工方法 [P].

杨敏男 .

中国专利 :CN101289046A ,2008-10-22

[8]

用于获得增强的荧光检测能力的光学基片 [P].

J·克劳斯 ;

J·埃德林格 ;

M·韦基 ;

H·托梅－费尔斯特 ;

C·海涅－坎普肯斯 ;

B·麦森赫尔德 ;

M·卡斯帕 .

中国专利 :CN1798968A ,2006-07-05

[9]

在光学基片上蒸镀镀膜的方法 [P].

R·苏特 .

中国专利 :CN1169477A ,1998-01-07

[10]

一种光学基片 [P].

杜凯凯 ;

蔡璐 ;

陈醒 .

中国专利 :CN221039481U ,2024-05-28

← 1 2 3 4 5 →