真空处理装置及基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200880115649.0

申请日：

2008-11-26

公开(公告)号：

CN101855384A

公开(公告)日：

2010-10-06

发明(设计)人：

高木善胜佐藤重光大空弘树

申请人：

申请人地址：

日本神奈川

IPC主分类号：

C23C1456

IPC分类号：

H01J902 H01J946 H01J1102

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

黄永杰

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-06-01	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101733430465 IPC(主分类):C23C 14/56 专利申请号:2008801156490 申请公布日:20101006
2010-10-06	公开	公开
2010-11-24	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101017289027 IPC(主分类):C23C 14/56 专利申请号:2008801156490 申请日:20081126

共 50 条

[1]

真空处理装置及基板处理方法 [P].

高木善胜 ;

佐藤重光 ;

大空弘树 .

中国专利 :CN103882402A ,2014-06-25

[2]

真空处理装置及真空处理方法 [P].

佐竹彻 .

中国专利 :CN103392027A ,2013-11-13

[3]

真空处理方法及真空处理装置 [P].

津田英司 .

中国专利 :CN105483639B ,2016-04-13

[4]

真空处理装置及真空处理方法 [P].

田之口亮斗 ;

坪内宏树 ;

生方孝男 .

日本专利 :CN116438621B ,2025-07-18

[5]

真空处理装置、真空处理方法 [P].

饭岛荣一 ;

池田裕人 ;

箱守宗人 .

中国专利 :CN102112646A ,2011-06-29

[6]

静电吸盘、真空处理装置及基板处理方法 [P].

酒田现示 ;

横尾秀和 .

中国专利 :CN112640082A ,2021-04-09

[7]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

福田义朗 ;

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

杉村道成 .

日本专利 :CN117626213A ,2024-03-01

[8]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

木本孝仁 ;

藤井琢也 ;

坂本纯一 ;

佐藤昌敏 .

日本专利 :CN120330662A ,2025-07-18

[9]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

近藤昌树 ;

林辉幸 ;

齐藤美佐子 .

中国专利 :CN101310041A ,2008-11-19

[10]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

福田义朗 ;

前平谦 .

日本专利 :CN117587377A ,2024-02-23

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