真空处理装置和真空处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411946264.6

申请日：

2024-12-27

公开(公告)号：

CN120330662A

公开(公告)日：

2025-07-18

发明(设计)人：

木本孝仁藤井琢也坂本纯一佐藤昌敏

申请人：

株式会社爱发科

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

C23C14/24

IPC分类号：

C23C14/14 C23C14/58

代理机构：

北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413

代理人：

袁波;刘继富

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-08-05	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/24申请日:20241227
2025-07-18	公开	公开

共 50 条

[1]

真空处理装置、真空处理系统和处理方法 [P].

南雅人 ;

佐佐木芳彦 ;

佐佐木和男 .

中国专利 :CN101752173A ,2010-06-23

[2]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

福田义朗 ;

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

杉村道成 .

日本专利 :CN117626213A ,2024-03-01

[3]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

近藤昌树 ;

林辉幸 ;

齐藤美佐子 .

中国专利 :CN101310041A ,2008-11-19

[4]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

福田义朗 ;

前平谦 .

日本专利 :CN117587377A ,2024-02-23

[5]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

吉田雄祐 ;

中元茂 ;

福地功祐 ;

朝仓凉次 .

日本专利 :CN113851391B ,2025-08-22

[6]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

榎本忠 ;

高桥喜一 ;

田中恵一 .

中国专利 :CN104795344A ,2015-07-22

[7]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

吉田雄祐 ;

中元茂 ;

福地功祐 ;

朝仓凉次 .

中国专利 :CN113851391A ,2021-12-28

[8]

真空处理装置、真空处理系统和真空处理方法 [P].

山岸孝幸 ;

小林民宏 .

中国专利 :CN110610873B ,2019-12-24

[9]

真空处理装置、真空处理装置的清洁方法 [P].

宫谷武尚 ;

神保洋介 ;

山本良明 ;

江藤谦次 ;

阿部洋一 .

中国专利 :CN113261078A ,2021-08-13

[10]

真空处理装置、真空处理装置的清洁方法 [P].

宫谷武尚 ;

神保洋介 ;

山本良明 ;

江藤谦次 ;

阿部洋一 .

日本专利 :CN113261078B ,2024-06-21

← 1 2 3 4 5 →