真空处理装置、真空处理系统和真空处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910505293.1

申请日：

2019-06-12

公开(公告)号：

CN110610873B

公开(公告)日：

2019-12-24

发明(设计)人：

山岸孝幸小林民宏

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L21677 H01L2168

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳;刘芃茜

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-12-24	公开	公开
2023-02-03	授权	授权
2020-01-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20190612

共 50 条

[1]

真空处理装置、真空处理系统和处理方法 [P].

南雅人 ;

佐佐木芳彦 ;

佐佐木和男 .

中国专利 :CN101752173A ,2010-06-23

[2]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

福田义朗 ;

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

杉村道成 .

日本专利 :CN117626213A ,2024-03-01

[3]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

木本孝仁 ;

藤井琢也 ;

坂本纯一 ;

佐藤昌敏 .

日本专利 :CN120330662A ,2025-07-18

[4]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

近藤昌树 ;

林辉幸 ;

齐藤美佐子 .

中国专利 :CN101310041A ,2008-11-19

[5]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

福田义朗 ;

前平谦 .

日本专利 :CN117587377A ,2024-02-23

[6]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

吉田雄祐 ;

中元茂 ;

福地功祐 ;

朝仓凉次 .

日本专利 :CN113851391B ,2025-08-22

[7]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

榎本忠 ;

高桥喜一 ;

田中恵一 .

中国专利 :CN104795344A ,2015-07-22

[8]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

吉田雄祐 ;

中元茂 ;

福地功祐 ;

朝仓凉次 .

中国专利 :CN113851391A ,2021-12-28

[9]

真空处理装置、真空处理方法 [P].

饭岛荣一 ;

池田裕人 ;

箱守宗人 .

中国专利 :CN102112646A ,2011-06-29

[10]

真空处理装置及真空处理方法 [P].

佐竹彻 .

中国专利 :CN103392027A ,2013-11-13

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