真空处理装置和真空处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510024499.4

申请日：

2015-01-16

公开(公告)号：

CN104795344A

公开(公告)日：

2015-07-22

发明(设计)人：

榎本忠高桥喜一田中恵一

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L21673 H01L2168 H01L21677 H01L2102

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;张会华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-07-22	公开	公开
2016-08-24	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101675812665 IPC(主分类):H01L 21/67 专利申请号:2015100244994 申请日:20150116
2018-10-12	授权	授权

共 50 条

[1]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

近藤昌树 ;

林辉幸 ;

齐藤美佐子 .

中国专利 :CN101310041A ,2008-11-19

[2]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

福田义朗 ;

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

杉村道成 .

日本专利 :CN117626213A ,2024-03-01

[3]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

木本孝仁 ;

藤井琢也 ;

坂本纯一 ;

佐藤昌敏 .

日本专利 :CN120330662A ,2025-07-18

[4]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

福田义朗 ;

前平谦 .

日本专利 :CN117587377A ,2024-02-23

[5]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

吉田雄祐 ;

中元茂 ;

福地功祐 ;

朝仓凉次 .

日本专利 :CN113851391B ,2025-08-22

[6]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

吉田雄祐 ;

中元茂 ;

福地功祐 ;

朝仓凉次 .

中国专利 :CN113851391A ,2021-12-28

[7]

真空处理装置、真空处理系统和真空处理方法 [P].

山岸孝幸 ;

小林民宏 .

中国专利 :CN110610873B ,2019-12-24

[8]

真空处理装置、真空处理方法 [P].

饭岛荣一 ;

池田裕人 ;

箱守宗人 .

中国专利 :CN102112646A ,2011-06-29

[9]

真空处理装置和使用该真空处理装置的真空处理方法 [P].

郑京勳 ;

西口昌男 ;

岩瀬大辅 ;

卢基俊 ;

张万洙 .

中国专利 :CN115020275A ,2022-09-06

[10]

真空处理装置及真空处理方法 [P].

佐竹彻 .

中国专利 :CN103392027A ,2013-11-13

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