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势垒调制晶体管
被引:0
申请号
:
CN202210757082.9
申请日
:
2022-06-29
公开(公告)号
:
CN115547959A
公开(公告)日
:
2022-12-30
发明(设计)人
:
T.哈夫达拉
D.利维
D.本-巴萨特
M.泽哈维
B.R.冈伯格
申请人
:
申请人地址
:
以色列赫兹立亚
IPC主分类号
:
H01L2348
IPC分类号
:
H01L2350
H01L23528
H01L2978
H01L21768
H01L21336
代理机构
:
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
:
陈金林
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-12-30
公开
公开
共 50 条
[1]
具有势垒的隧道晶体管
[P].
雷德弗里德勒·胡尔克斯
论文数:
0
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0
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雷德弗里德勒·胡尔克斯
;
普拉巴特·阿加瓦尔
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0
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普拉巴特·阿加瓦尔
.
中国专利
:CN101375380B
,2009-02-25
[2]
具有集成肖特基势垒的绝缘栅双极晶体管
[P].
陈在晨
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陈在晨
;
A·A·塞尔曼
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0
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A·A·塞尔曼
;
H·L·爱德华兹
论文数:
0
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0
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H·L·爱德华兹
.
中国专利
:CN114649326A
,2022-06-21
[3]
具有扩散势垒区的晶体管
[P].
B·杨
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0
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0
B·杨
;
X·李
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X·李
;
P·齐达姆巴兰姆
论文数:
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P·齐达姆巴兰姆
.
中国专利
:CN105981145B
,2016-09-28
[4]
用于晶体管器件中色散降低的势垒结构
[P].
郭佳
论文数:
0
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机构:
沃孚半导体公司
沃孚半导体公司
郭佳
;
凯尔·博思
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机构:
沃孚半导体公司
沃孚半导体公司
凯尔·博思
;
奥洛夫·托恩布莱德
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机构:
沃孚半导体公司
沃孚半导体公司
奥洛夫·托恩布莱德
;
斯科特·谢泼德
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机构:
沃孚半导体公司
沃孚半导体公司
斯科特·谢泼德
.
美国专利
:CN119923723A
,2025-05-02
[5]
肖特基势垒晶体管及其制备方法
[P].
罗军
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罗军
;
毛淑娟
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毛淑娟
;
许静
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许静
.
中国专利
:CN109671780A
,2019-04-23
[6]
肖特基势垒晶体管及其制造方法
[P].
郑又硕
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郑又硕
;
李诚宰
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李诚宰
;
张汶圭
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张汶圭
.
中国专利
:CN1315196C
,2004-10-20
[7]
一种肖特基势垒MOS晶体管及其制备方法
[P].
黄如
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黄如
;
江文哲
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江文哲
;
黄芊芊
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黄芊芊
;
詹瞻
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詹瞻
;
邱颖鑫
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邱颖鑫
.
中国专利
:CN102324434B
,2012-01-18
[8]
一种双层肖特基势垒MOS晶体管及其制备方法
[P].
孙雷
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孙雷
;
徐浩
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徐浩
;
张一博
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张一博
;
韩静文
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韩静文
;
王漪
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王漪
;
张盛东
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张盛东
.
中国专利
:CN104241397A
,2014-12-24
[9]
具有双厚度势垒层的高电子迁移率晶体管
[P].
G.库拉托拉
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0
引用数:
0
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机构:
英飞凌科技奥地利有限公司
英飞凌科技奥地利有限公司
G.库拉托拉
;
O.赫贝伦
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机构:
英飞凌科技奥地利有限公司
英飞凌科技奥地利有限公司
O.赫贝伦
.
:CN110233104B
,2025-02-25
[10]
具有双厚度势垒层的高电子迁移率晶体管
[P].
G.库拉托拉
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G.库拉托拉
;
O.赫贝伦
论文数:
0
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O.赫贝伦
.
中国专利
:CN110233104A
,2019-09-13
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