用于贵金属的抛光组合物

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200580025563.5
申请日
2005-07-01
公开(公告)号
CN1993437B
公开(公告)日
2007-07-04
发明(设计)人
弗朗西斯科·德雷格西索罗 弗拉西克·布鲁西克 克里斯托弗·汤普森 本杰明·拜尔
申请人
申请人地址
美国伊利诺伊州
IPC主分类号
C09G102
IPC分类号
C09K314 C23F306 H01L21321
代理机构
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
宋莉;贾静环
法律状态
专利权的终止
国省代码
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共 50 条
[1]
用于抛光贵金属的具有聚合物添加剂的化学机械抛光组合物 [P]. 
弗朗西斯科·德雷吉西索罗 ;
本杰明·拜尔 .
中国专利 :CN101040021A ,2007-09-19
[2]
金属CMP用的抛光组合物 [P]. 
王淑敏 ;
史蒂文·K·格鲁比恩 ;
克里斯托弗·C·斯特赖恩兹 ;
埃里克·W·G·霍格伦 .
中国专利 :CN1436225A ,2003-08-13
[3]
包括磺酸的CMP组合物和用于抛光贵金属的方法 [P]. 
弗朗西斯科·德里格西索罗 ;
弗拉斯塔·布鲁西克 ;
本杰明·P·拜尔 .
中国专利 :CN1753961A ,2006-03-29
[4]
一种用于硅晶片抛光的抛光组合物 [P]. 
潘国顺 ;
顾忠华 ;
高峰 ;
雒建斌 ;
路新春 ;
刘岩 .
中国专利 :CN101451046A ,2009-06-10
[5]
用于镍-磷存储磁盘的抛光组合物 [P]. 
S.帕拉尼萨米奇纳萨姆比 ;
H.斯里瓦达恩 .
中国专利 :CN102361950B ,2012-02-22
[6]
用于镍-磷存储盘的抛光组合物 [P]. 
S.帕拉尼萨米钦娜萨姆比 ;
H.西里瓦达尼 .
中国专利 :CN102804345A ,2012-11-28
[7]
用于金属合金的化学机械抛光组合物及其抛光方法 [P]. 
彭路希 ;
田露 ;
贾仁合 .
中国专利 :CN117511414A ,2024-02-06
[8]
用于金属合金的化学机械抛光组合物及其抛光方法 [P]. 
彭路希 ;
田露 ;
贾仁合 .
中国专利 :CN117511413A ,2024-02-06
[9]
用于金属合金的化学机械抛光组合物及其抛光方法 [P]. 
彭路希 ;
田露 ;
贾仁合 .
中国专利 :CN119816571A ,2025-04-11
[10]
用于金属合金的化学机械抛光组合物及其抛光方法 [P]. 
彭路希 ;
田露 ;
贾仁合 .
中国专利 :CN119731282A ,2025-03-28