残余单体含量低的聚合物的制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN00813850.8

申请日：

2000-09-18

公开(公告)号：

CN1377374A

公开(公告)日：

2002-10-30

发明(设计)人：

D·A·塞瓦尔 R·G·赖尔斯 M·霍尔兹沃思

申请人：

申请人地址：

美国特拉华州

IPC主分类号：

C08F600

IPC分类号：

代理机构：

上海专利商标事务所

代理人：

陈文青

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-10-20	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C08F 6/00 申请日:20000918 授权公告日:20040616
2004-06-16	授权	授权
2002-10-30	公开	公开
2009-01-14	专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)	专利申请权、专利权的转移(专利权的转移) 变更事项:专利权人变更前权利人:CYTEC技术有限公司变更后权利人:凯米拉公司变更事项:地址变更前:美国特拉华州变更后:芬兰赫尔辛基登记生效日:20081205
2003-01-15	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

制备残余单体含量低的乳液聚合物的氧化还原方法 [P].

S·C·布朗 ;

R·C·埃文 .

中国专利 :CN1275986C ,2002-05-15

[2]

制备氨基甲酸官能聚合物的方法 [P].

R·J·塔罗尔 ;

J·W·里福斯 ;

J·伯尔斯特 ;

P·莱希克 ;

D·L·斯特奥宾 .

中国专利 :CN1132757A ,1996-10-09

[3]

涂料组合物、(甲基)丙烯酸类聚合物和用于制备所述(甲基)丙烯酸类聚合物的单体混合物 [P].

C·M·布雷纳 ;

G·施密特 ;

T·许茨 ;

J·克内贝尔 ;

I·兹维尔宙斯基 ;

M·施泰因 .

中国专利 :CN102369245A ,2012-03-07

[4]

减少聚合物的残余自由基可聚合单体含量的方法 [P].

J·P·马蒂内兹 ;

J·J·范德比尔特 ;

K·A·多利 .

中国专利 :CN1649906A ,2005-08-03

[5]

丙烯酸类单体连续阴离子聚合成高固体含量聚合物的方法 [P].

B·沃利明 ;

S·诺韦 .

中国专利 :CN1140180A ,1997-01-15

[6]

制备具有低残余异氰酸酯单体的异氰酸酯官能预聚合物的方法 [P].

S·E·翰里奇 ;

G·A·A·欧德 ;

维塞林克 .

中国专利 :CN1239549C ,2002-10-23

[7]

制备接枝聚合物的方法 [P].

黃文子 ;

金昶会 ;

蔡旼洙 ;

金建秀 ;

田喜晶 ;

金亨俊 .

韩国专利 :CN117751148A ,2024-03-22

[8]

去除含胺聚合物中残余单体和低聚物的方法 [P].

罗伯特·L·奥伯里福特 ;

艾里克·G·爱萨考夫 ;

兼·R·飞施尔 ;

艾里克·C·皮特斯 .

中国专利 :CN1065464A ,1992-10-21

[9]

制备基于丙烯酸类聚合物的抗擦刮和耐磨的成型制品的方法 [P].

马科·里格蒙蒂 .

中国专利 :CN1120564A ,1996-04-17

[10]

降低水溶性或水可溶胀性聚合物中残余单体含量的方法 [P].

A·弗利舍尔 ;

G·I·奈洛尔 ;

L·赖斯特里克 .

中国专利 :CN1255458C ,2004-05-12

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