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残余单体含量低的聚合物的制备方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN00813850.8
申请日：
2000-09-18
公开(公告)号：
CN1377374A
公开(公告)日：
2002-10-30
发明(设计)人：
D·A·塞瓦尔
R·G·赖尔斯
M·霍尔兹沃思
申请人：
申请人地址：
美国特拉华州
IPC主分类号：
C08F600
IPC分类号：
代理机构：
上海专利商标事务所
代理人：
陈文青
法律状态：
专利权的终止
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-10-20 | 专利权的终止 | 专利权有效期届满 IPC(主分类):C08F 6/00 申请日:20000918 授权公告日:20040616 |
| 2004-06-16 | 授权 | 授权 |
| 2002-10-30 | 公开 | 公开 |
| 2009-01-14 | 专利申请权、专利权的转移(专利权的转移) | 专利申请权、专利权的转移(专利权的转移) 变更事项:专利权人 变更前权利人:CYTEC技术有限公司 变更后权利人:凯米拉公司 变更事项:地址 变更前:美国特拉华州 变更后:芬兰赫尔辛基 登记生效日:20081205 |
| 2003-01-15 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 |