两步沉积法制备ZnO薄膜的方法

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专利类型
发明
申请号
CN201010215711.2
申请日
2010-06-29
公开(公告)号
CN101887849A
公开(公告)日
2010-11-17
发明(设计)人
赵岳 吕志勇 梁小燕 李召 王林军 闵嘉华
申请人
申请人地址
200444 上海市宝山区上大路99号
IPC主分类号
H01L21208
IPC分类号
代理机构
上海上大专利事务所(普通合伙) 31205
代理人
顾勇华
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
两步沉积法 [P]. 
亨利·J·施耐德 ;
加尔斯·E·埃普龙 ;
詹姆斯·M·鲍尔 .
中国专利 :CN107075657B ,2017-08-18
[2]
电沉积法制备分级结构多孔阵列ZnO薄膜的方法 [P]. 
雷建飞 ;
李立本 ;
倪静 ;
杜凯 ;
魏荣慧 ;
毛爱霞 .
中国专利 :CN103060873A ,2013-04-24
[3]
针状ZnO纳米薄膜的制备方法 [P]. 
王耀斌 .
中国专利 :CN106733556A ,2017-05-31
[4]
两步氧化法制备高质量石墨烯的方法 [P]. 
温广武 ;
黄小萧 ;
钟博 ;
费连东 .
中国专利 :CN104495827A ,2015-04-08
[5]
两步电沉积制备多孔镍骨架析氧电极的方法 [P]. 
蓝凌寒 ;
刘广福 ;
张平 ;
梁举超 ;
甘久亮 ;
陈孟君 ;
庾春荣 ;
曾建华 .
中国专利 :CN119372693A ,2025-01-28
[6]
一种两步旋涂法制备单层胶体晶体的方法 [P]. 
彭寿 ;
汤永康 ;
马立云 ;
金良茂 ;
甘治平 ;
李刚 .
中国专利 :CN108193278B ,2018-06-22
[7]
溶胶凝胶制备ZnO多孔薄膜的方法 [P]. 
楼白杨 ;
彭含笑 .
中国专利 :CN105948529A ,2016-09-21
[8]
一种两步溶液法制备磷酸铁锂正极材料的方法 [P]. 
刘晶晶 .
中国专利 :CN108258237A ,2018-07-06
[9]
两步法制备氧化锡纳米材料的方法 [P]. 
蒋建中 ;
何燕 ;
刘金芳 ;
吴海平 .
中国专利 :CN1762827A ,2006-04-26
[10]
两步共沉淀法制备铌酸锶钡纳米粉体的方法 [P]. 
吴淑雅 ;
朱铖 .
中国专利 :CN107903072A ,2018-04-13