两步沉积法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201580037211.5

申请日：

2015-07-09

公开(公告)号：

CN107075657B

公开(公告)日：

2017-08-18

发明(设计)人：

亨利·J·施耐德加尔斯·E·埃普龙詹姆斯·M·鲍尔

申请人：

申请人地址：

英国牛津

IPC主分类号：

C23C1400

IPC分类号：

C23C1406 C23C1412 C23C1424 C23C1458

代理机构：

北京派特恩知识产权代理有限公司 11270

代理人：

张铮铮;姚开丽

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-08-18	公开	公开
2019-07-09	授权	授权
2017-09-12	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101747186064 IPC(主分类):C23C 14/00 专利申请号:2015800372115 申请日:20150709

共 50 条

[1]

两步沉积法制备ZnO薄膜的方法 [P].

赵岳 ;

吕志勇 ;

梁小燕 ;

李召 ;

王林军 ;

闵嘉华 .

中国专利 :CN101887849A ,2010-11-17

[2]

两步预处理体系和方法 [P].

S·J·莱蒙 ;

J·J·马丁 ;

K·T·西尔维斯特 ;

P·L·沃特鲁巴-德扎尔 ;

G·L·珀斯特 .

中国专利 :CN110997979A ,2020-04-10

[3]

连续化两步反应工艺及其装置 [P].

黄伟 ;

孙维周 ;

李志勤 .

中国专利 :CN101357313A ,2009-02-04

[4]

两步固化聚酰亚胺低聚物 [P].

加里·L·迪茨 ;

熊建明 .

中国专利 :CN101346413B ,2009-01-14

[5]

两步L形选择性外延生长 [P].

耿万波 ;

薛磊 ;

薛家倩 ;

刘小欣 ;

高庭庭 ;

黄波 .

中国专利 :CN112041987A ,2020-12-04

[6]

两步L形选择性外延生长 [P].

耿万波 ;

薛磊 ;

薛家倩 ;

刘小欣 ;

高庭庭 ;

黄波 .

中国专利 :CN117596885A ,2024-02-23

[7]

处理室残留物的两步式等离子清洗 [P].

布雷特·C·理查森 ;

文森特·翁 .

中国专利 :CN1507502A ,2004-06-23

[8]

由呋喃化合物两步合成吡咯化合物 [P].

K·M·拉森 .

美国专利 :CN117881658A ,2024-04-12

[9]

一种两步合成端硅氧烷基聚醚的方法 [P].

李桂妃 ;

任绍志 ;

潘生辉 ;

詹锋 .

中国专利 :CN110483761A ,2019-11-22

[10]

硫族化合物多晶原料的两步合成方法 [P].

陶绪堂 ;

王善朋 ;

刘贯东 ;

将民华 .

中国专利 :CN101671847B ,2010-03-17

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