用于化学气相沉积系统的样品制备高效生长载台

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201520849542.6

申请日：

2015-10-30

公开(公告)号：

CN205067186U

公开(公告)日：

2016-03-02

发明(设计)人：

李克训王东红赵亚丽李哲王蓬

申请人：

申请人地址：

030006 山西省太原市经济技术开发区彩虹街1号

IPC主分类号：

G01N128

IPC分类号：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-03-02	授权	授权

共 50 条

[1]

基于化学气相沉积法制备样品的系统 [P].

陈小梅 .

中国专利 :CN204803403U ,2015-11-25

[2]

化学气相沉积系统 [P].

南琦 ;

刘瑞 ;

邓敏 .

中国专利 :CN209162187U ,2019-07-26

[3]

化学气相沉积系统 [P].

胡丹 ;

朱刘 ;

余明 .

中国专利 :CN210104068U ,2020-02-21

[4]

化学气相沉积系统、化学气相沉积系统的装置和化学气相沉积方法 [P].

N·P·德斯科维奇 ;

W·D·格罗夫 .

中国专利 :CN105369211A ,2016-03-02

[5]

化学气相沉积炉、系统及用于化学气相沉积的装炉结构 [P].

姚宏 ;

黄志鹏 ;

赵领航 ;

杜路路 ;

段滨 .

中国专利 :CN217127529U ,2022-08-05

[6]

化学气相沉积装置及化学气相沉积系统 [P].

杨耀辉 ;

胡文华 ;

梅治民 ;

王维维 ;

俞方旭 ;

席洪峰 ;

罗治湘 .

中国专利 :CN118086872A ,2024-05-28

[7]

化学气相沉积载台结构及化学气相沉积设备 [P].

朱合意 ;

贾钊 ;

窦志珍 ;

胡恒广 .

中国专利 :CN222524669U ,2025-02-25

[8]

用于制备硅碳负极材料的化学气相沉积系统 [P].

吴清国 ;

权学军 ;

朱玉巧 ;

徐中领 .

中国专利 :CN203890439U ,2014-10-22

[9]

化学气相沉积系统 [P].

方建中 ;

杨成傑 ;

郑祥炬 .

中国专利 :CN103374709A ,2013-10-30

[10]

化学气相沉积系统 [P].

钟瑞伦 ;

吴俊鹏 .

中国专利 :CN211522317U ,2020-09-18

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