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一种带主次凹槽的多层抛光垫
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202021489886.8
申请日
:
2020-07-25
公开(公告)号
:
CN212794517U
公开(公告)日
:
2021-03-26
发明(设计)人
:
宋献礼
申请人
:
申请人地址
:
215000 江苏省苏州市工业园区唯亭方泾路2号
IPC主分类号
:
B24B3722
IPC分类号
:
B24B3724
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-03-26
授权
授权
共 50 条
[1]
一种带主次凹槽的多层抛光垫
[P].
白林森
论文数:
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0
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白林森
;
梁莲芝
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梁莲芝
.
中国专利
:CN207971815U
,2018-10-16
[2]
一种多层结构的抛光垫
[P].
张莉媛
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张莉媛
;
张美娟
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张美娟
;
江天山
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江天山
;
张均海
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张均海
;
童文涛
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童文涛
.
中国专利
:CN210414071U
,2020-04-28
[3]
一种带孔的抛光垫
[P].
白林森
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白林森
;
梁莲芝
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梁莲芝
.
中国专利
:CN208289665U
,2018-12-28
[4]
一种带有凸起垒的多层抛光垫
[P].
白林森
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0
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白林森
;
梁莲芝
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梁莲芝
.
中国专利
:CN207972375U
,2018-10-16
[5]
一种抛光垫、抛光装置
[P].
于长江
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于长江
;
王兆敏
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王兆敏
;
路朋
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路朋
.
中国专利
:CN211465947U
,2020-09-11
[6]
一种带沟槽的聚氨酯抛光垫
[P].
杨来保
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杨来保
.
中国专利
:CN214186728U
,2021-09-14
[7]
一种弹性凹槽自支撑抛光垫
[P].
白林森
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白林森
;
梁莲芝
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梁莲芝
.
中国专利
:CN207971803U
,2018-10-16
[8]
一种晶片抛光用多层抛光垫
[P].
李加海
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李加海
;
谭鸿
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谭鸿
.
中国专利
:CN214559983U
,2021-11-02
[9]
一种抛光时同步清洁抛光垫的带式抛光装置
[P].
陈浩
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陈浩
;
王家雄
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王家雄
.
中国专利
:CN215357894U
,2021-12-31
[10]
一种复合形多层抛光垫
[P].
李加海
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李加海
;
谭鸿
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谭鸿
.
中国专利
:CN214560118U
,2021-11-02
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