光化学反应装置和使用光化学反应装置的同位素浓缩方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201280007933.2
申请日
2012-01-23
公开(公告)号
CN103347603A
公开(公告)日
2013-10-09
发明(设计)人
林田茂 神边贵史 佐藤哲也 五十岚健大 久世宏明
申请人
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
B01J1912
IPC分类号
B01D5934 G02B508
代理机构
北京德琦知识产权代理有限公司 11018
代理人
康泉;宋志强
法律状态
实质审查的生效
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
光化学反应装置、使用该装置的光化学反应方法 [P]. 
杉本健矩 ;
高桥徹 ;
菅原一起 .
中国专利 :CN107073433B ,2017-08-18
[2]
光化学反应装置 [P]. 
小野昭彦 ;
御子柴智 ;
北川良太 ;
田村淳 ;
工藤由纪 ;
黄静君 .
中国专利 :CN104797741B ,2015-07-22
[3]
光化学反应装置 [P]. 
高万里 ;
霍红英 .
中国专利 :CN221619417U ,2024-08-30
[4]
光化学反应装置 [P]. 
谢涛 ;
庞立华 ;
熊发新 ;
陈宏国 ;
范卫东 .
中国专利 :CN112495324B ,2021-03-16
[5]
光化学反应装置 [P]. 
小野昭彦 ;
御子柴智 ;
北川良太 ;
田村淳 ;
工藤由纪 ;
黄静君 .
中国专利 :CN107287613A ,2017-10-24
[6]
光化学反应装置 [P]. 
郭肖扬 ;
孙芳静 ;
刘宗柱 ;
刘文华 ;
尹永奇 ;
黄娇娇 .
中国专利 :CN222446470U ,2025-02-11
[7]
光化学反应处理装置和光化学反应处理方法 [P]. 
角谷祐公 ;
中野浩二 .
中国专利 :CN1502403A ,2004-06-09
[8]
用于表层土壤光化学反应研究的光化学反应装置 [P]. 
吴峰 ;
邓南圣 ;
白利杰 .
中国专利 :CN201203607Y ,2009-03-04
[9]
连续光化学反应装置 [P]. 
洪浩 ;
洪亮 ;
陶建 ;
郑淞元 ;
王滨 ;
刘凯 .
中国专利 :CN217829970U ,2022-11-18
[10]
辐射和光化学反应装置 [P]. 
王辑五 .
中国专利 :CN2331414Y ,1999-08-04