光化学反应装置、使用该装置的光化学反应方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201580052798.7

申请日：

2015-09-17

公开(公告)号：

CN107073433B

公开(公告)日：

2017-08-18

发明(设计)人：

杉本健矩高桥徹菅原一起

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

B01J1912

IPC分类号：

C07C24906 C07C25144 C07D22502 C07B6100

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人：

庞东成;褚瑶杨

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-08-18	公开	公开
2020-01-31	授权	授权
2017-09-12	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101747182598 IPC(主分类):B01J 19/12 专利申请号:2015800527987 申请日:20150917

共 50 条

[1]

光化学反应装置 [P].

谢涛 ;

庞立华 ;

熊发新 ;

陈宏国 ;

范卫东 .

中国专利 :CN112495324B ,2021-03-16

[2]

光化学反应装置 [P].

小野昭彦 ;

御子柴智 ;

北川良太 ;

田村淳 ;

工藤由纪 ;

黄静君 .

中国专利 :CN104797741B ,2015-07-22

[3]

光化学反应装置 [P].

高万里 ;

霍红英 .

中国专利 :CN221619417U ,2024-08-30

[4]

光化学反应装置 [P].

小野昭彦 ;

御子柴智 ;

北川良太 ;

田村淳 ;

工藤由纪 ;

黄静君 .

中国专利 :CN107287613A ,2017-10-24

[5]

光化学反应装置 [P].

郭肖扬 ;

孙芳静 ;

刘宗柱 ;

刘文华 ;

尹永奇 ;

黄娇娇 .

中国专利 :CN222446470U ,2025-02-11

[6]

用于表层土壤光化学反应研究的光化学反应装置 [P].

吴峰 ;

邓南圣 ;

白利杰 .

中国专利 :CN201203607Y ,2009-03-04

[7]

光化学反应设备及光化学反应方法 [P].

李超 ;

王丽荣 ;

丛欢 ;

周前雄 .

中国专利 :CN120189894A ,2025-06-24

[8]

连续光化学反应装置 [P].

洪浩 ;

洪亮 ;

陶建 ;

郑淞元 ;

王滨 ;

刘凯 .

中国专利 :CN217829970U ,2022-11-18

[9]

光化学反应处理装置和光化学反应处理方法 [P].

角谷祐公 ;

中野浩二 .

中国专利 :CN1502403A ,2004-06-09

[10]

光化学反应装置和使用光化学反应装置的同位素浓缩方法 [P].

林田茂 ;

神边贵史 ;

佐藤哲也 ;

五十岚健大 ;

久世宏明 .

中国专利 :CN103347603A ,2013-10-09

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