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用于溅射沉积的方法和设备

被引：0
申请号：
CN202080090605.8
申请日：
2020-11-10
公开(公告)号：
CN114930489A
公开(公告)日：
2022-08-19
发明(设计)人：
M.伦达尔
申请人：
申请人地址：
英国威尔特郡
IPC主分类号：
H01J3732
IPC分类号：
H01J3734 C23C1435 C23C1456 C23C1434
代理机构：
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人：
张邦帅
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2022-09-06 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20201110
2022-08-19 公开 公开
共 50 条
[1]
用于溅射沉积的方法和设备 [P]. 
M.伦达尔 .
英国专利 :CN114930489B ,2025-08-12
[2]
溅射沉积设备和方法 [P]. 
M.伦德尔 .
中国专利 :CN114946010A ,2022-08-26
[3]
用于将靶材料溅射沉积到基底的方法和设备 [P]. 
M.伦德尔 ;
R.格鲁亚 .
英国专利 :CN114846576B ,2025-03-25
[4]
用于将靶材料溅射沉积到基底的方法和设备 [P]. 
M.伦德尔 ;
R.格鲁亚 .
中国专利 :CN114846576A ,2022-08-02
[5]
溅射沉积设备和方法 [P]. 
M.伦德尔 .
英国专利 :CN114930490B ,2025-12-02
[6]
溅射沉积设备和方法 [P]. 
M.伦德尔 ;
R.格鲁尔 .
英国专利 :CN114846575B ,2025-07-01
[7]
溅射沉积设备和方法 [P]. 
S.M.卡利 .
中国专利 :CN114318261A ,2022-04-12
[8]
溅射沉积设备和方法 [P]. 
M.伦德尔 .
中国专利 :CN114930490A ,2022-08-19
[9]
溅射沉积设备和方法 [P]. 
M.伦德尔 ;
R.格鲁尔 .
中国专利 :CN114846575A ,2022-08-02
[10]
溅射沉积源、溅射沉积设备和操作溅射沉积源的方法 [P]. 
拉尔夫·林登贝格 ;
沃尔夫冈·布什贝克 ;
德烈亚斯·勒普 .
中国专利 :CN109314035B ,2019-02-05
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