溅射沉积设备和方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202080092214.X
申请日
2020-11-10
公开(公告)号
CN114930490B
公开(公告)日
2025-12-02
发明(设计)人
M.伦德尔
申请人
戴森技术有限公司
申请人地址
英国威尔特郡
IPC主分类号
H01J37/32
IPC分类号
H01J37/34
代理机构
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
张邦帅
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
溅射沉积设备和方法 [P]. 
M.伦德尔 .
中国专利 :CN114930490A ,2022-08-19
[2]
溅射沉积设备和方法 [P]. 
M.伦德尔 .
中国专利 :CN114946010A ,2022-08-26
[3]
溅射沉积设备和方法 [P]. 
M.伦德尔 ;
R.格鲁尔 .
英国专利 :CN114846575B ,2025-07-01
[4]
溅射沉积设备和方法 [P]. 
S.M.卡利 .
中国专利 :CN114318261A ,2022-04-12
[5]
溅射沉积设备和方法 [P]. 
M.伦德尔 ;
R.格鲁尔 .
中国专利 :CN114846575A ,2022-08-02
[6]
溅射沉积源、溅射沉积设备和操作溅射沉积源的方法 [P]. 
拉尔夫·林登贝格 ;
沃尔夫冈·布什贝克 ;
德烈亚斯·勒普 .
中国专利 :CN109314035B ,2019-02-05
[7]
用于溅射沉积的方法和设备 [P]. 
M.伦达尔 .
英国专利 :CN114930489B ,2025-08-12
[8]
用于溅射沉积的方法和设备 [P]. 
M.伦达尔 .
中国专利 :CN114930489A ,2022-08-19
[9]
溅射沉积 [P]. 
M.伦达尔 ;
R.格鲁尔 .
英国专利 :CN114902371B ,2025-04-29
[10]
溅射沉积 [P]. 
M.伦德尔 .
中国专利 :CN114930496A ,2022-08-19