采用液体浸渍表面的装置和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811223150.3

申请日：

2013-11-19

公开(公告)号：

CN109719109B

公开(公告)日：

2019-05-07

发明(设计)人：

J·戴维·史密斯苏尚特·阿南德斯里尼瓦斯·普拉萨德·本加卢鲁·苏布拉马尼亚姆康拉德·雷卡丘斯基克里帕·K·瓦拉纳斯

申请人：

申请人地址：

美国马萨诸塞州

IPC主分类号：

B08B1706

IPC分类号：

B29C5902 C09D516

代理机构：

北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287

代理人：

沈锦华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-05-07	公开	公开
2023-01-06	授权	授权
2019-05-31	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B08B 17/06 申请日:20131119

共 50 条

[1]

采用液体浸渍表面的装置和方法 [P].

J·戴维·史密斯 ;

苏尚特·阿南德 ;

斯里尼瓦斯·普拉萨德·本加卢鲁·苏布拉马尼亚姆 ;

康拉德·雷卡丘斯基 ;

克里帕·K·瓦拉纳斯 .

中国专利 :CN105188967B ,2015-12-23

[2]

具有液体浸渍表面的装置 [P].

J·大卫·史密斯 ;

拉耶夫·迪曼 ;

亚当·T·帕克森 ;

克里斯托弗·J·洛夫 ;

布莱恩·R·所罗门 ;

克里帕·K·瓦拉纳斯 .

中国专利 :CN104619791A ,2015-05-13

[3]

提供液体浸渍疏污垢性表面的制品和方法 [P].

斯里尼瓦斯·普拉萨德·本加卢鲁·苏布拉马尼亚姆 ;

吉塞勒·阿齐米 ;

乔纳森·大卫·史密斯 ;

克里帕·K·瓦拉纳西 .

中国专利 :CN105264323A ,2016-01-20

[4]

形成液体浸渍表面的喷涂工艺与方法 [P].

K·K·瓦拉纳希 ;

J·D·史密斯 ;

J·亚格 ;

B·乔丹 ;

C·希本 ;

J·徐 ;

T·丛 .

中国专利 :CN106470769A ,2017-03-01

[5]

采用臭氧清洗半导体晶片表面的装置和方法 [P].

容倍金 ;

寅权丁 ;

政烨金 .

中国专利 :CN1729063A ,2006-02-01

[6]

用于浸渍织物表面的新方法 [P].

Y·吉罗 ;

M·德吕埃勒 ;

G·梅弗尔 .

中国专利 :CN101443504A ,2009-05-27

[7]

保护和擦拭表面的装置和方法 [P].

罗伯特·杰克斯·沃德 ;

戴维·肯尼斯·托马斯·安德查克 .

中国专利 :CN1649778A ,2005-08-03

[8]

检测晶片表面的装置和方法 [P].

苏黎克·沃尔夫冈 ;

海登·麦可 .

中国专利 :CN1920540A ,2007-02-28

[9]

加工石材表面的装置和方法 [P].

俞恒庆 .

中国专利 :CN101352898A ,2009-01-28

[10]

用于清洁表面的装置和方法 [P].

T·约瑟夫森 ;

A·赛普克 ;

C·孔蒂奥 .

中国专利 :CN101426591A ,2009-05-06

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