偏光膜形成用组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510262609.0

申请日：

2015-05-21

公开(公告)号：

CN105131667B

公开(公告)日：

2015-12-09

发明(设计)人：

飞田宪之大川春树

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C09D402

IPC分类号：

C09D763 C07C24508 C07D295135 C07D51304 G02B530 G02F11335

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

赵曦;金世煜

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-12-09	公开	公开
2019-03-01	授权	授权
2017-04-26	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101716005247 IPC(主分类):C09D 4/02 专利申请号:2015102626090 申请日:20150521

共 50 条

[1]

偏光膜形成用组合物 [P].

村野耕太 ;

幡中伸行 ;

太田阳介 .

中国专利 :CN111656232A ,2020-09-11

[2]

组合物、偏振膜 [P].

飞田宪之 ;

大川春树 .

中国专利 :CN106978196B ,2017-07-25

[3]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

境田康志 ;

高濑显司 ;

岸冈高广 ;

坂本力丸 .

中国专利 :CN109073977B ,2018-12-21

[4]

偏光膜形成用组合物、偏光膜、偏光板及其制造方法 [P].

乾奈绪子 ;

小林忠弘 .

中国专利 :CN118725197A ,2024-10-01

[5]

偏光膜形成用组合物、偏光膜、偏光板及其制造方法 [P].

幡中伸行 ;

太田阳介 ;

村野耕太 ;

德田真芳 .

中国专利 :CN111670392B ,2020-09-15

[6]

光学膜形成用组合物 [P].

宫本皓史 ;

池内淳一 .

中国专利 :CN110922753A ,2020-03-27

[7]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

井形航维 ;

清水祥 ;

田村护 .

日本专利 :CN117836718A ,2024-04-05

[8]

保护膜形成用组合物 [P].

上林哲 .

日本专利 :CN118633059A ,2024-09-10

[9]

保护膜形成用组合物 [P].

桥本雄人 ;

德永光 ;

绪方裕斗 ;

大桥智也 ;

境田康志 ;

岸冈高广 .

中国专利 :CN109952631A ,2019-06-28

[10]

被膜形成用组合物 [P].

井本鹰行 ;

坂田瑞希 ;

胜家睦洋 ;

庄子武明 .

中国专利 :CN112638359A ,2021-04-09

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