折射率测量方法、测量装置和光学元件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610402338.9

申请日：

2016-06-08

公开(公告)号：

CN106248623A

公开(公告)日：

2016-12-21

发明(设计)人：

杉本智洋

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G01N2145

IPC分类号：

G01M1102

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

欧阳帆

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-07-04	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101731395206 IPC(主分类):G01N 21/45 专利申请号:2016104023389 申请日:20160608
2019-10-18	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G01N 21/45 申请公布日:20161221
2016-12-21	公开	公开

共 50 条

[1]

折射率测量方法、折射率测量装置及光学元件制造方法 [P].

杉本智洋 .

中国专利 :CN105339778A ,2016-02-17

[2]

折射率分布测量方法和测量装置以及光学元件制造方法 [P].

杉本智洋 .

中国专利 :CN105675261A ,2016-06-15

[3]

折射率分布测量方法、测量装置及制造光学元件的方法 [P].

加藤正磨 .

中国专利 :CN104914071A ,2015-09-16

[4]

折射率分布测量方法、装置和制造光学元件的方法 [P].

加藤正磨 .

中国专利 :CN102564738B ,2012-07-11

[5]

折射率的测量方法和折射率的测量装置 [P].

杉本智洋 .

中国专利 :CN102435584B ,2012-05-02

[6]

折射率分布测量方法和折射率分布测量装置 [P].

杉本智洋 .

中国专利 :CN102062677B ,2011-05-18

[7]

折射率分布测量方法和折射率分布测量装置 [P].

杉本智洋 .

中国专利 :CN102918373B ,2013-02-06

[8]

介质折射率的测量装置及其测量方法 [P].

张培晴 ;

刘永兴 ;

黄国松 ;

戴世勋 ;

张培全 ;

王训四 ;

沈祥 ;

徐铁峰 ;

聂秋华 .

中国专利 :CN105092529A ,2015-11-25

[9]

折射率分布测量方法和折射率分布测量设备 [P].

加藤正磨 .

中国专利 :CN102297758A ,2011-12-28

[10]

折射率的测量装置、测量设备和测量方法 [P].

谈宜东 ;

阿玛尼·阿里雷扎 .

中国专利 :CN119269391A ,2025-01-07

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