一种用于细长管件内壁镀膜的磁控溅射装置

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申请号
CN202122269334.7
申请日
2021-09-18
公开(公告)号
CN216639630U
公开(公告)日
2022-05-31
发明(设计)人
涂溶 章嵩 王传彬 张联盟 沈强 李志荣 李迎春
申请人
申请人地址
430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号
IPC主分类号
C23C1435
IPC分类号
C23C1404
代理机构
湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102
代理人
官群;崔友明
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
用于磁控溅射镀膜设备的放气装置及磁控溅射镀膜设备 [P]. 
陈军 ;
李弋舟 ;
陈曦 .
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[2]
一种用于磁控溅射的镀膜装置 [P]. 
文霜 ;
胡慧忠 ;
文欣霏 .
中国专利 :CN120700453A ,2025-09-26
[3]
一种用于大长径比金属管材内壁镀膜的磁控溅射装置 [P]. 
章嵩 ;
涂溶 ;
王传彬 ;
张联盟 ;
沈强 ;
李志荣 ;
李迎春 .
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[4]
一种同端进出水的细长管内壁镀膜用的磁控溅射靶 [P]. 
李志方 ;
冯晓庭 ;
龙本洋 .
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[5]
用于磁控溅射镀膜设备的梯凳及磁控溅射镀膜设备 [P]. 
臧世伟 .
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[6]
一种磁控溅射镀膜装置 [P]. 
朱杰 .
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[7]
一种磁控溅射镀膜装置 [P]. 
唐迎春 ;
丁平伍 ;
李琴 ;
江小军 ;
旷小奇 .
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[8]
一种磁控溅射镀膜装置 [P]. 
何晏兵 ;
曹永祥 ;
仇泽军 ;
李文铭 ;
江培杰 .
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[9]
一种磁控溅射镀膜装置 [P]. 
金宇 ;
陈溢祺 ;
朱忆雪 ;
朱东风 ;
朱运平 ;
金长利 .
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[10]
一种磁控溅射镀膜装置 [P]. 
张俊峰 ;
魏庆瑄 .
中国专利 :CN203021643U ,2013-06-26