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单片硅片清洗机台
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201420648827.9
申请日
:
2014-11-03
公开(公告)号
:
CN204204813U
公开(公告)日
:
2015-03-11
发明(设计)人
:
吴耀辉
周炳
申请人
:
申请人地址
:
江苏省苏州市张家港市塘市开发区南园路
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
B08B302
代理机构
:
常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231
代理人
:
陈书华
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2015-03-11
授权
授权
共 50 条
[1]
单片硅片清洗机台
[P].
吴耀辉
论文数:
0
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吴耀辉
;
周炳
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周炳
.
中国专利
:CN104319252A
,2015-01-28
[2]
一种硅片清洗机台
[P].
马振兴
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0
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0
机构:
上海宸积半导体科技有限公司
上海宸积半导体科技有限公司
马振兴
.
中国专利
:CN221046756U
,2024-05-31
[3]
硅片清洗机
[P].
陈春晖
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0
陈春晖
.
中国专利
:CN202174082U
,2012-03-28
[4]
一种硅片清洗机台
[P].
刘海啸
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机构:
山东瑞翼德科技股份有限公司
山东瑞翼德科技股份有限公司
刘海啸
;
马兴蓬
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机构:
山东瑞翼德科技股份有限公司
山东瑞翼德科技股份有限公司
马兴蓬
;
于德意
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机构:
山东瑞翼德科技股份有限公司
山东瑞翼德科技股份有限公司
于德意
.
中国专利
:CN117884413A
,2024-04-16
[5]
一种硅片清洗机台
[P].
刘海啸
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机构:
山东瑞翼德科技股份有限公司
山东瑞翼德科技股份有限公司
刘海啸
;
马兴蓬
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机构:
山东瑞翼德科技股份有限公司
山东瑞翼德科技股份有限公司
马兴蓬
;
于德意
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机构:
山东瑞翼德科技股份有限公司
山东瑞翼德科技股份有限公司
于德意
.
中国专利
:CN117884413B
,2024-05-31
[6]
晶圆清洗机台
[P].
吕慧超
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吕慧超
;
高英哲
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高英哲
;
刘家桦
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刘家桦
.
中国专利
:CN209487474U
,2019-10-11
[7]
保护装置及单片机清洗机台
[P].
施龚伟
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施龚伟
;
张弢
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张弢
;
刘鹏
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刘鹏
.
中国专利
:CN212018870U
,2020-11-27
[8]
基底清洗机台
[P].
张杰真
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张杰真
;
刘命江
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刘命江
;
方桂芹
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方桂芹
.
中国专利
:CN209298082U
,2019-08-23
[9]
硅片测速装置和单片清洗机
[P].
崔卓彦
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机构:
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
崔卓彦
.
中国专利
:CN119716128A
,2025-03-28
[10]
电子装置油渍清洗机台
[P].
陈茂钦
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机构:
元钛科技股份有限公司
元钛科技股份有限公司
陈茂钦
;
朱佳建
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机构:
元钛科技股份有限公司
元钛科技股份有限公司
朱佳建
.
中国专利
:CN220406489U
,2024-01-30
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