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等离子体处理装置和等离子体处理方法
被引:0
申请号
:
CN202210524489.7
申请日
:
2022-05-13
公开(公告)号
:
CN115346851A
公开(公告)日
:
2022-11-15
发明(设计)人
:
佐佐木佑治
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
:
刘新宇
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-11-15
公开
公开
共 50 条
[1]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
酒井永典
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
酒井永典
.
日本专利
:CN111725046B
,2025-03-21
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
山田和人
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
山田和人
;
远藤宏纪
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
远藤宏纪
;
佐藤贵志
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐藤贵志
.
日本专利
:CN112117178B
,2024-07-12
[3]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
酒井永典
论文数:
0
引用数:
0
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0
酒井永典
.
中国专利
:CN111725046A
,2020-09-29
[4]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
郑和俊
论文数:
0
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0
郑和俊
;
大秦充敬
论文数:
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大秦充敬
;
保坂勇贵
论文数:
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保坂勇贵
;
郑完崧
论文数:
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郑完崧
.
中国专利
:CN115116814A
,2022-09-27
[5]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
山田和人
论文数:
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山田和人
;
远藤宏纪
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远藤宏纪
;
佐藤贵志
论文数:
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佐藤贵志
.
中国专利
:CN112117178A
,2020-12-22
[6]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
矢幡将二郎
论文数:
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矢幡将二郎
;
佐藤徹治
论文数:
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佐藤徹治
.
中国专利
:CN113345787A
,2021-09-03
[7]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
岸宏树
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岸宏树
;
徐智洙
论文数:
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徐智洙
.
中国专利
:CN106920733B
,2017-07-04
[8]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
山岸幸司
论文数:
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山岸幸司
;
白泽大辅
论文数:
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白泽大辅
.
中国专利
:CN112992643A
,2021-06-18
[9]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
池田太郎
论文数:
0
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池田太郎
.
中国专利
:CN1554114A
,2004-12-08
[10]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
李诚泰
论文数:
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李诚泰
;
土桥和也
论文数:
0
引用数:
0
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土桥和也
.
中国专利
:CN102347231B
,2012-02-08
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