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等离子体处理装置和等离子体处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010531470.6
申请日
:
2020-06-11
公开(公告)号
:
CN112117178A
公开(公告)日
:
2020-12-22
发明(设计)人
:
山田和人
远藤宏纪
佐藤贵志
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
:
刘新宇
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-04-08
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20200611
2020-12-22
公开
公开
共 50 条
[1]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
山田和人
论文数:
0
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0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
山田和人
;
远藤宏纪
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
远藤宏纪
;
佐藤贵志
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐藤贵志
.
日本专利
:CN112117178B
,2024-07-12
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
岩田学
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岩田学
;
中山博之
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中山博之
;
增泽健二
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增泽健二
;
本田昌伸
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本田昌伸
.
中国专利
:CN101515545B
,2009-08-26
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
山岸幸司
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山岸幸司
;
白泽大辅
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白泽大辅
.
中国专利
:CN112992643A
,2021-06-18
[4]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
塚原利也
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
塚原利也
;
山边周平
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
山边周平
;
谷地晃汰
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
谷地晃汰
;
佐藤徹治
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐藤徹治
;
内田阳平
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
内田阳平
;
铃木步太
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
铃木步太
;
田村洋典
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
田村洋典
;
花冈秀敏
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
花冈秀敏
;
佐佐木淳一
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐佐木淳一
.
日本专利
:CN111261511B
,2024-06-18
[5]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
西野雅
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西野雅
;
真壁正嗣
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真壁正嗣
;
长山将之
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长山将之
;
半田达也
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半田达也
;
绿川良太郎
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绿川良太郎
;
小林启悟
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小林启悟
;
仁矢铁也
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仁矢铁也
.
中国专利
:CN103959447A
,2014-07-30
[6]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
塚原利也
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塚原利也
;
山边周平
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山边周平
;
谷地晃汰
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谷地晃汰
;
佐藤徹治
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佐藤徹治
;
内田阳平
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内田阳平
;
铃木步太
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铃木步太
;
田村洋典
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田村洋典
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花冈秀敏
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花冈秀敏
;
佐佐木淳一
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佐佐木淳一
.
中国专利
:CN111261511A
,2020-06-09
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
藤井徹
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
藤井徹
;
今田祥友
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
今田祥友
;
大槻兴平
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
大槻兴平
.
日本专利
:CN111383899B
,2024-07-12
[8]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
永海幸一
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永海幸一
;
永关一也
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永关一也
;
桧森慎司
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桧森慎司
.
中国专利
:CN111146061A
,2020-05-12
[9]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
安田健太
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安田健太
;
久保田徹
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久保田徹
;
近藤崇
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近藤崇
;
石田胜广
论文数:
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0
石田胜广
.
中国专利
:CN106104768B
,2016-11-09
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
永海幸一
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
永海幸一
;
永关一也
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
永关一也
;
桧森慎司
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
桧森慎司
.
日本专利
:CN111146061B
,2024-11-08
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