等离子体处理装置和等离子体处理方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201911378065.9
申请日
2019-12-27
公开(公告)号
CN111383899B
公开(公告)日
2024-07-12
发明(设计)人
藤井徹 今田祥友 大槻兴平
申请人
东京毅力科创株式会社
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01J37/32
IPC分类号
H01L21/67
代理机构
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
刘新宇
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
藤井徹 ;
今田祥友 ;
大槻兴平 .
中国专利 :CN111383899A ,2020-07-07
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
西野雅 ;
真壁正嗣 ;
长山将之 ;
半田达也 ;
绿川良太郎 ;
小林启悟 ;
仁矢铁也 .
中国专利 :CN103959447A ,2014-07-30
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
东条利洋 ;
藤井祐希 .
中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20
[4]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
里吉务 ;
佐藤亮 ;
佐佐木和男 ;
齐藤均 .
中国专利 :CN100543944C ,2005-11-09
[5]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
岩田学 ;
中山博之 ;
增泽健二 ;
本田昌伸 .
中国专利 :CN101515545B ,2009-08-26
[6]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
塚原利也 ;
山边周平 ;
谷地晃汰 ;
佐藤徹治 ;
内田阳平 ;
铃木步太 ;
田村洋典 ;
花冈秀敏 ;
佐佐木淳一 .
日本专利 :CN111261511B ,2024-06-18
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
塚原利也 ;
山边周平 ;
谷地晃汰 ;
佐藤徹治 ;
内田阳平 ;
铃木步太 ;
田村洋典 ;
花冈秀敏 ;
佐佐木淳一 .
中国专利 :CN111261511A ,2020-06-09
[8]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
阪根亮太 ;
小林秀行 ;
长畑寿 ;
罗重佑 .
中国专利 :CN108172493B ,2018-06-15
[9]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
山田和人 ;
远藤宏纪 ;
佐藤贵志 .
日本专利 :CN112117178B ,2024-07-12
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
进藤崇央 ;
冈本清一 ;
大友洋 ;
菊地贵伦 ;
松土龙夫 ;
森田靖 ;
佐久间隆 .
中国专利 :CN113936985A ,2022-01-14