成像装置和成像方法以及程序

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980010781.3

申请日：

2019-01-22

公开(公告)号：

CN111670000A

公开(公告)日：

2020-09-15

发明(设计)人：

上森丈士伊藤厚史五味信一郎森内优介中村宪一郎

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

A61B100

IPC分类号：

A61B1045 G01N2127 G02B2324 H04N5225 H04N5232

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

王萍;王鹏

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-01-12	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):A61B 1/00 申请日:20190122
2020-09-15	公开	公开

共 50 条

[1]

成像装置和成像方法以及程序 [P].

上森丈士 ;

伊藤厚史 ;

五味信一郎 ;

森内优介 ;

中村宪一郎 .

日本专利 :CN111670000B ,2024-06-28

[2]

成像装置、成像方法以及程序 [P].

大规博树 ;

明贺阳平 .

日本专利 :CN119256553A ,2025-01-03

[3]

成像装置、成像方法以及程序 [P].

细川知志 .

中国专利 :CN101953151A ,2011-01-19

[4]

成像装置、成像方法以及程序 [P].

游马晃 .

中国专利 :CN101729789A ,2010-06-09

[5]

成像装置、成像方法、以及程序 [P].

中世古哲司 .

中国专利 :CN103369264A ,2013-10-23

[6]

成像装置、成像方法以及程序 [P].

宇山慧佑 ;

涩川健太郎 ;

中山凌辅 ;

吉冈圭一 ;

平野晋作 ;

清水良广 .

日本专利 :CN120752926A ,2025-10-03

[7]

成像装置、成像方法和成像程序 [P].

西谷泰昭 .

日本专利 :CN117413530A ,2024-01-16

[8]

成像装置和方法以及程序 [P].

小菅克也 ;

三瓶贤一 .

中国专利 :CN1951108A ,2007-04-18

[9]

成像装置、成像方法和成像程序 [P].

池田将彰 .

日本专利 :CN118872282A ,2024-10-29

[10]

成像装置、成像方法和程序 [P].

野村和典 ;

猪俣诚一 ;

簗奏子 .

日本专利 :CN114080796B ,2024-07-02

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