光刻机光栅六自由度位移测量系统

被引：0

申请号：

CN202210502276.4

申请日：

2022-05-10

公开(公告)号：

CN114993190A

公开(公告)日：

2022-09-02

发明(设计)人：

王磊杰朱煜张晏福张鸣叶伟楠成荣

申请人：

申请人地址：

100084 北京市海淀区清华园

IPC主分类号：

G01B1103

IPC分类号：

代理机构：

北京鸿元知识产权代理有限公司 11327

代理人：

董永辉;曹素云

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-09-02	公开	公开
2022-09-20	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 11/03 申请日:20220510

共 50 条

[1]

光刻机掩模台六自由度位移测量系统 [P].

王磊杰 ;

朱煜 ;

郭子文 ;

张鸣 ;

叶伟楠 ;

成荣 .

中国专利 :CN113758428B ,2021-12-07

[2]

光刻机位移测量系统 [P].

范玉娇 ;

韩昱 ;

杨月舳 .

中国专利 :CN119668037B ,2025-11-11

[3]

光刻机位移测量系统 [P].

范玉娇 ;

韩昱 ;

杨月舳 .

中国专利 :CN119668037A ,2025-03-21

[4]

平面光栅六自由度位移测量系统中误差分离与补偿方法 [P].

胡金春 ;

朱煜 ;

田畅 ;

张鸣 ;

尹文生 ;

成荣 ;

王磊杰 ;

韩如锦 ;

徐登峰 .

中国专利 :CN110057304A ,2019-07-26

[5]

基于二维光栅的多自由度位移测量系统 [P].

刘红忠 ;

史永胜 ;

尹磊 ;

陈邦道 .

中国专利 :CN211668441U ,2020-10-13

[6]

基于二维光栅的多自由度位移测量系统 [P].

刘红忠 ;

史永胜 ;

尹磊 ;

陈邦道 .

中国专利 :CN111174714B ,2025-05-16

[7]

基于二维光栅的多自由度位移测量系统 [P].

刘红忠 ;

史永胜 ;

尹磊 ;

陈邦道 .

中国专利 :CN111174714A ,2020-05-19

[8]

光学元件六自由度微位移调节装置、投影物镜和光刻机 [P].

张德福 ;

李显凌 ;

倪明阳 ;

隋永新 ;

杨怀江 .

中国专利 :CN106338805A ,2017-01-18

[9]

一种位移测量系统和光刻机 [P].

张静静 .

中国专利 :CN110553591A ,2019-12-10

[10]

光学元件六自由度定位调节装置、投影物镜及光刻机 [P].

张德福 ;

李显凌 ;

倪明阳 ;

隋永新 ;

杨怀江 .

中国专利 :CN107145041B ,2017-09-08

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