光刻机掩模台六自由度位移测量系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111137159.4

申请日：

2021-09-27

公开(公告)号：

CN113758428B

公开(公告)日：

2021-12-07

发明(设计)人：

王磊杰朱煜郭子文张鸣叶伟楠成荣

申请人：

申请人地址：

100084 北京市海淀区清华园

IPC主分类号：

G01B1102

IPC分类号：

代理机构：

北京鸿元知识产权代理有限公司 11327

代理人：

董永辉;曹素云

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-12-07	公开	公开
2021-12-24	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 11/02 申请日:20210927
2022-12-13	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻机光栅六自由度位移测量系统 [P].

王磊杰 ;

朱煜 ;

张晏福 ;

张鸣 ;

叶伟楠 ;

成荣 .

中国专利 :CN114993190A ,2022-09-02

[2]

位移测量装置、掩模台测量系统和光刻机 [P].

吴萍 .

中国专利 :CN212806922U ,2021-03-26

[3]

光刻机位移测量系统 [P].

范玉娇 ;

韩昱 ;

杨月舳 .

中国专利 :CN119668037B ,2025-11-11

[4]

光刻机位移测量系统 [P].

范玉娇 ;

韩昱 ;

杨月舳 .

中国专利 :CN119668037A ,2025-03-21

[5]

带光电位置探测器测量的六自由度粗动台的掩模台系统 [P].

朱煜 ;

张鸣 ;

刘召 ;

杨开明 ;

徐登峰 ;

成荣 ;

刘昊 ;

张利 ;

田丽 ;

叶伟楠 ;

张金 ;

尹文生 ;

穆海华 ;

胡金春 .

中国专利 :CN103105742B ,2013-05-15

[6]

平面光栅六自由度位移测量系统中误差分离与补偿方法 [P].

胡金春 ;

朱煜 ;

田畅 ;

张鸣 ;

尹文生 ;

成荣 ;

王磊杰 ;

韩如锦 ;

徐登峰 .

中国专利 :CN110057304A ,2019-07-26

[7]

一种位移测量系统和光刻机 [P].

张静静 .

中国专利 :CN110553591A ,2019-12-10

[8]

六自由度位姿测量系统 [P].

苏建 ;

王恒刚 ;

王丽 ;

宋建 ;

曹小宁 ;

王秀刚 ;

林慧英 ;

徐观 .

中国专利 :CN203518972U ,2014-04-02

[9]

光学元件六自由度微位移调节装置、投影物镜和光刻机 [P].

张德福 ;

李显凌 ;

倪明阳 ;

隋永新 ;

杨怀江 .

中国专利 :CN106338805A ,2017-01-18

[10]

非接触六自由度位移测量装置 [P].

吕勇 ;

刘力双 ;

郎晓萍 ;

吕乃光 ;

孙鹏 .

中国专利 :CN101382417B ,2009-03-11

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