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基片的处理系统及方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202111276826.7
申请日
:
2021-10-29
公开(公告)号
:
CN114005775A
公开(公告)日
:
2022-02-01
发明(设计)人
:
雷仲礼
金浩
申请人
:
申请人地址
:
314499 浙江省嘉兴市海宁市海宁经济开发区施带路18号1幢2楼
IPC主分类号
:
H01L21677
IPC分类号
:
H01L2167
H01L3118
C23C1450
C23C1456
C23C1650
C23C16458
C23C1654
代理机构
:
上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286
代理人
:
黄海霞
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-02-01
公开
公开
2022-02-22
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/677 申请日:20211029
共 50 条
[1]
基片的处理系统及方法
[P].
雷仲礼
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
德鸿半导体设备(浙江)有限公司
德鸿半导体设备(浙江)有限公司
雷仲礼
;
金浩
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
德鸿半导体设备(浙江)有限公司
德鸿半导体设备(浙江)有限公司
金浩
.
中国专利
:CN114005775B
,2025-07-22
[2]
基片处理系统
[P].
H·罗尔曼
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
H·罗尔曼
;
O·拉图恩德
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
O·拉图恩德
.
中国专利
:CN101023509A
,2007-08-22
[3]
基片处理设备及基片处理系统
[P].
王浩浩
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
王浩浩
.
中国专利
:CN223273215U
,2025-08-26
[4]
基片处理方法和基片处理系统
[P].
熊仓翔
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
熊仓翔
;
小野健太
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小野健太
;
中根由太
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
中根由太
;
西冢哲也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
西冢哲也
;
本田昌伸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
本田昌伸
.
日本专利
:CN119923708A
,2025-05-02
[5]
基片处理方法和基片处理系统
[P].
久松亨
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
久松亨
;
胜沼隆幸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
胜沼隆幸
;
石川慎也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
石川慎也
;
木原嘉英
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
木原嘉英
;
本田昌伸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
本田昌伸
.
日本专利
:CN113169066B
,2024-05-31
[6]
基片处理方法和基片处理系统
[P].
榎本正志
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
榎本正志
;
中村泰之
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
中村泰之
;
鹤田丰久
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
鹤田丰久
.
中国专利
:CN113075867A
,2021-07-06
[7]
基片处理方法和基片处理系统
[P].
冈田聪一郎
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
冈田聪一郎
.
日本专利
:CN117501416A
,2024-02-02
[8]
基片处理系统和基片处理方法
[P].
赫尔曼·施勒姆
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
赫尔曼·施勒姆
;
马蒂亚斯·尤尔格
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
马蒂亚斯·尤尔格
.
中国专利
:CN102007565A
,2011-04-06
[9]
基片处理方法和基片处理系统
[P].
熊仓翔
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
熊仓翔
;
小野健太
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小野健太
;
中根由太
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
中根由太
;
西冢哲也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
西冢哲也
;
本田昌伸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
本田昌伸
.
日本专利
:CN119816921A
,2025-04-11
[10]
基片处理系统和基片处理方法
[P].
齐藤幸良
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
齐藤幸良
;
中原田雅弘
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
中原田雅弘
.
日本专利
:CN120184070A
,2025-06-20
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