基片的处理系统及方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202111276826.7
申请日
2021-10-29
公开(公告)号
CN114005775B
公开(公告)日
2025-07-22
发明(设计)人
雷仲礼 金浩
申请人
德鸿半导体设备(浙江)有限公司
申请人地址
314499 浙江省嘉兴市海宁市海宁经济开发区施带路18号1幢2楼
IPC主分类号
H01L21/677
IPC分类号
H01L21/67 H10F71/00 C23C14/50 C23C14/56 C23C16/50 C23C16/458 C23C16/54
代理机构
上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286
代理人
黄海霞
法律状态
授权
国省代码
河北省 衡水市
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共 50 条
[1]
基片的处理系统及方法 [P]. 
雷仲礼 ;
金浩 .
中国专利 :CN114005775A ,2022-02-01
[2]
基片处理系统 [P]. 
H·罗尔曼 ;
O·拉图恩德 .
中国专利 :CN101023509A ,2007-08-22
[3]
基片处理设备及基片处理系统 [P]. 
王浩浩 .
中国专利 :CN223273215U ,2025-08-26
[4]
基片处理方法和基片处理系统 [P]. 
熊仓翔 ;
小野健太 ;
中根由太 ;
西冢哲也 ;
本田昌伸 .
日本专利 :CN119923708A ,2025-05-02
[5]
基片处理方法和基片处理系统 [P]. 
久松亨 ;
胜沼隆幸 ;
石川慎也 ;
木原嘉英 ;
本田昌伸 .
日本专利 :CN113169066B ,2024-05-31
[6]
基片处理方法和基片处理系统 [P]. 
榎本正志 ;
中村泰之 ;
鹤田丰久 .
中国专利 :CN113075867A ,2021-07-06
[7]
基片处理方法和基片处理系统 [P]. 
冈田聪一郎 .
日本专利 :CN117501416A ,2024-02-02
[8]
基片处理系统和基片处理方法 [P]. 
赫尔曼·施勒姆 ;
马蒂亚斯·尤尔格 .
中国专利 :CN102007565A ,2011-04-06
[9]
基片处理方法和基片处理系统 [P]. 
熊仓翔 ;
小野健太 ;
中根由太 ;
西冢哲也 ;
本田昌伸 .
日本专利 :CN119816921A ,2025-04-11
[10]
基片处理系统和基片处理方法 [P]. 
齐藤幸良 ;
中原田雅弘 .
日本专利 :CN120184070A ,2025-06-20