等离子体处理装置、等离子体处理方法和存储介质

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810135193.6

申请日：

2008-08-15

公开(公告)号：

CN101370349A

公开(公告)日：

2009-02-18

发明(设计)人：

松土龙夫桧森慎司今井范章大瀬刚阿部淳胜沼隆幸

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H05H146

IPC分类号：

H01L2100 H01L213065 H01J3732

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司

代理人：

龙淳

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-02-18	公开	公开
2015-10-14	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101721937262 IPC(主分类):H01L 21/3065 专利申请号:2008101351936 申请公布日:20090218
2009-04-15	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 ;

山泽阳平 .

中国专利 :CN102522304A ,2012-06-27

[2]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 ;

山泽阳平 .

中国专利 :CN101847558B ,2010-09-29

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

进藤崇央 ;

冈本清一 ;

大友洋 ;

菊地贵伦 ;

松土龙夫 ;

森田靖 ;

佐久间隆 .

中国专利 :CN113936985A ,2022-01-14

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

进藤崇央 ;

冈本清一 ;

大友洋 ;

菊地贵伦 ;

松土龙夫 ;

森田靖 ;

佐久间隆 .

日本专利 :CN113936985B ,2025-03-11

[5]

等离子体处理装置和等离子体处理方法以及存储介质 [P].

佐藤亮 ;

齐藤均 .

中国专利 :CN101237742A ,2008-08-06

[6]

等离子体处理装置、等离子体处理方法和存储介质 [P].

山涌纯 .

中国专利 :CN107452612A ,2017-12-08

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

东条利洋 ;

藤井祐希 .

中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20

[8]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

里吉务 ;

佐藤亮 ;

佐佐木和男 ;

齐藤均 .

中国专利 :CN100543944C ,2005-11-09

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

岩田学 ;

中山博之 ;

增泽健二 ;

本田昌伸 .

中国专利 :CN101515545B ,2009-08-26

[10]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

塚原利也 ;

山边周平 ;

谷地晃汰 ;

佐藤徹治 ;

内田阳平 ;

铃木步太 ;

田村洋典 ;

花冈秀敏 ;

佐佐木淳一 .

日本专利 :CN111261511B ,2024-06-18

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