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压力传感器及压力传感器的制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201710459040.6
申请日
:
2017-06-16
公开(公告)号
:
CN107543650A
公开(公告)日
:
2018-01-05
发明(设计)人
:
泷本和哉
平井一德
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
G01L1900
IPC分类号
:
代理机构
:
北京银龙知识产权代理有限公司 11243
代理人
:
金成哲;宋春华
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-01-30
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G01L 19/00 申请日:20170616
2018-01-05
公开
公开
2020-10-20
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G01L 19/00 申请公布日:20180105
共 50 条
[1]
压力传感器及制造压力传感器的方法
[P].
瓦尔特·勒特林斯赫费尔
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瓦尔特·勒特林斯赫费尔
;
库尔特·魏布伦
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库尔特·魏布伦
;
乌尔里希·格贝尔
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乌尔里希·格贝尔
.
中国专利
:CN1125323C
,1998-06-17
[2]
压力传感器的制造方法及压力传感器
[P].
山田达范
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山田达范
;
岩渕盾纪
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岩渕盾纪
.
中国专利
:CN106168516A
,2016-11-30
[3]
压力传感器及制造压力传感器的方法
[P].
汉斯-亨宁·汉森
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汉斯-亨宁·汉森
;
拉尔斯·诺加德
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拉尔斯·诺加德
;
维恩斯·谢蒂
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维恩斯·谢蒂
;
克劳斯·托尼森
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克劳斯·托尼森
;
英格瓦·斯马里·坎普
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英格瓦·斯马里·坎普
.
中国专利
:CN107543646A
,2018-01-05
[4]
传感器芯片、压力传感器、制造压力传感器的方法
[P].
郭伟龙
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
郭伟龙
;
李月
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
李月
;
魏秋旭
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
魏秋旭
;
王立会
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
王立会
;
张韬楠
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
张韬楠
;
何娜娜
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
何娜娜
;
孙杰
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
孙杰
;
常文博
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
常文博
;
曲峰
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
曲峰
.
中国专利
:CN120092171A
,2025-06-03
[5]
压力传感器以及压力传感器的制造方法
[P].
潘孝江
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潘孝江
;
程兵兵
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程兵兵
;
钟谦
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钟谦
;
刘广宇
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刘广宇
;
孟祥设
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0
孟祥设
.
中国专利
:CN113008450A
,2021-06-22
[6]
压力传感器以及压力传感器的制造方法
[P].
松山贤一
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机构:
株式会社鹭宫制作所
株式会社鹭宫制作所
松山贤一
;
平井一德
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机构:
株式会社鹭宫制作所
株式会社鹭宫制作所
平井一德
;
泷本和哉
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机构:
株式会社鹭宫制作所
株式会社鹭宫制作所
泷本和哉
;
中村武志
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机构:
株式会社鹭宫制作所
株式会社鹭宫制作所
中村武志
.
日本专利
:CN119104208A
,2024-12-10
[7]
压力传感器以及压力传感器的制造方法
[P].
石川琢郎
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石川琢郎
;
泷本和哉
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0
泷本和哉
;
石桥和德
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石桥和德
.
中国专利
:CN103487198A
,2014-01-01
[8]
压力传感器和压力传感器的制造方法
[P].
丰岛良一
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0
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丰岛良一
.
中国专利
:CN110709680B
,2020-01-17
[9]
压力传感器和制造压力传感器的方法
[P].
维沙尔·沙利特库马尔·库沙纳莱
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维沙尔·沙利特库马尔·库沙纳莱
;
托德·埃克哈特
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托德·埃克哈特
;
帕拉尼·萨尼加查拉姆
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帕拉尼·萨尼加查拉姆
;
维格涅什·穆鲁格桑
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维格涅什·穆鲁格桑
.
中国专利
:CN111751044A
,2020-10-09
[10]
压力传感器以及压力传感器的制造方法
[P].
松山贤一
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机构:
株式会社鹭宫制作所
株式会社鹭宫制作所
松山贤一
;
平井一德
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机构:
株式会社鹭宫制作所
株式会社鹭宫制作所
平井一德
;
泷本和哉
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0
机构:
株式会社鹭宫制作所
株式会社鹭宫制作所
泷本和哉
.
日本专利
:CN119104207A
,2024-12-10
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