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投射曝光方法、投射曝光设备、激光辐射源以及用于激光辐射源的带宽窄化模块
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201080008062.7
申请日：
2010-02-04
公开(公告)号：
CN102317868B
公开(公告)日：
2012-01-11
发明(设计)人：
迈克尔.帕特拉
申请人：
申请人地址：
德国上科亨
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
G02B2748
H01S3225
代理机构：
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人：
邱军
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2012-03-07 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101194112616 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2010800080627 申请日:20100204 |
| 2014-04-09 | 授权 | 授权 |
| 2012-01-11 | 公开 | 公开 |