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基片处理装置和基片输送方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201880022064.8
申请日：
2018-04-04
公开(公告)号：
CN110462809A
公开(公告)日：
2019-11-15
发明(设计)人：
诧间康司
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
H01L21677
IPC分类号：
B65G4907 H01L21027 H01L21304
代理机构：
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人：
龙淳;刘芃茜
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2019-11-15 公开 公开
2020-02-07 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/677 申请日:20180404
共 50 条
[1]
基片输送方法、基片处理装置和程序 [P]. 
松山健一郎 ;
鹿野礁 .
日本专利 :CN117331280A ,2024-01-02
[2]
基片输送方法、基片处理方法、基片输送装置和程序 [P]. 
原田浩树 ;
中野雄介 ;
寺本聪宽 ;
大冢豪 .
日本专利 :CN120497156A ,2025-08-15
[3]
基片输送方法和基片处理装置 [P]. 
田中诚治 ;
佐野僚 ;
山田洋平 .
中国专利 :CN113496915A ,2021-10-12
[4]
基片输送方法、基片处理装置和存储介质 [P]. 
香月信吾 ;
松山健一郎 ;
鹿野礁 ;
小崎纱央理 .
日本专利 :CN117331282A ,2024-01-02
[5]
基片处理装置和基片处理方法 [P]. 
松山健一郎 .
日本专利 :CN111489986B ,2024-03-22
[6]
基片处理装置和基片处理方法 [P]. 
绫部刚 .
日本专利 :CN111987028B ,2025-09-30
[7]
基片处理装置和基片处理方法 [P]. 
梅崎翔太 ;
林田贵大 ;
中岛干雄 ;
安永尚史 .
日本专利 :CN118366888A ,2024-07-19
[8]
基片处理装置和基片处理方法 [P]. 
绫部刚 .
中国专利 :CN111987028A ,2020-11-24
[9]
基片处理装置和基片处理方法 [P]. 
百武宏展 ;
永松辰也 ;
隐塚惠二 ;
齐藤幸良 .
日本专利 :CN118116837A ,2024-05-31
[10]
基片处理装置和基片处理方法 [P]. 
太田义治 ;
三根阳介 .
中国专利 :CN113926615A ,2022-01-14
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