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基片处理装置和基片处理方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010391521.X
申请日：
2020-05-11
公开(公告)号：
CN111987028A
公开(公告)日：
2020-11-24
发明(设计)人：
绫部刚
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
H01L21677
IPC分类号：
H01L2167
代理机构：
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人：
龙淳;刘芃茜
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-03-11 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/677 申请日:20200511 |
| 2020-11-24 | 公开 | 公开 |