真空处理腔室和具有真空处理腔室的真空处理设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080052526.4

申请日：

2010-10-05

公开(公告)号：

CN102770936B

公开(公告)日：

2012-11-07

发明(设计)人：

S·克拉斯尼策尔

申请人：

申请人地址：

瑞士特吕巴赫

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01L2100

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：

汲长志;杨国治

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-11-07	公开	公开
2021-06-08	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01J 37/32 变更事项:专利权人变更前:欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫) 变更后:欧瑞康表面解决方案股份公司，特吕巴赫变更事项:地址变更前:瑞士特吕巴赫变更后:瑞士特吕巴赫
2012-12-26	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101373122138 IPC(主分类):H01J 37/32 专利申请号:2010800525264 申请日:20101005
2021-06-08	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01J 37/32 变更事项:专利权人变更前:欧瑞康表面解决方案股份公司，特吕巴赫变更后:欧瑞康表面解决方案股份公司，普费菲孔变更事项:地址变更前:瑞士特吕巴赫变更后:瑞士普费菲孔
2015-07-08	授权	授权

共 50 条

[1]

真空处理用腔室 [P].

岩崎安邦 ;

福田祥慎 ;

宫崎修 .

中国专利 :CN100577861C ,2008-06-18

[2]

真空处理设备和真空处理方法 [P].

佐长谷肇 ;

渡边直树 ;

徐舸 .

中国专利 :CN102191480A ,2011-09-21

[3]

真空处理设备和真空处理方法 [P].

J·拉姆 ;

B·威德里格 ;

S·卡塞曼 ;

M·D·皮门塔 ;

O·马斯勒 ;

B·汉塞尔曼 .

中国专利 :CN101743338A ,2010-06-16

[4]

一种真空处理腔室及多腔室真空处理装置 [P].

余海春 ;

顾鹏鹏 ;

戴晓东 ;

戴秀海 ;

薛聪颖 .

中国专利 :CN120350348A ,2025-07-22

[5]

一种真空处理腔室及多腔室真空处理装置 [P].

余海春 ;

高文晶 ;

戴晓东 ;

顾鹏鹏 ;

罗俊 .

中国专利 :CN120291033A ,2025-07-11

[6]

真空处理室 [P].

C·L·史蒂文斯 ;

W·T·布洛尼甘 .

中国专利 :CN102760631B ,2012-10-31

[7]

自清洁真空处理腔室 [P].

张力 ;

贺小明 ;

李俊良 ;

倪图强 .

中国专利 :CN104576305A ,2015-04-29

[8]

真空处理室 [P].

小泉敏行 ;

藤野洋 ;

中袴田広巳 .

中国专利 :CN301641547S ,2011-08-10

[9]

真空闸室和真空处理设备 [P].

约翰·克劳斯 .

中国专利 :CN210458359U ,2020-05-05

[10]

真空处理设备和真空处理衬底的方法 [P].

M·布莱斯 ;

T·纳蒂格 .

中国专利 :CN112789717A ,2021-05-11

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