真空闸室和真空处理设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201920323159.5

申请日：

2019-03-14

公开(公告)号：

CN210458359U

公开(公告)日：

2020-05-05

发明(设计)人：

约翰·克劳斯

申请人：

申请人地址：

德国德累斯顿

IPC主分类号：

C23C1456

IPC分类号：

C23C1654

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

王瑞朋;胡彬

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-05-05	授权	授权

共 50 条

[1]

真空处理腔室和具有真空处理腔室的真空处理设备 [P].

S·克拉斯尼策尔 .

中国专利 :CN102770936B ,2012-11-07

[2]

真空处理设备和真空处理方法 [P].

佐长谷肇 ;

渡边直树 ;

徐舸 .

中国专利 :CN102191480A ,2011-09-21

[3]

真空处理设备和真空处理方法 [P].

J·拉姆 ;

B·威德里格 ;

S·卡塞曼 ;

M·D·皮门塔 ;

O·马斯勒 ;

B·汉塞尔曼 .

中国专利 :CN101743338A ,2010-06-16

[4]

真空处理设备和真空处理衬底的方法 [P].

M·布莱斯 ;

T·纳蒂格 .

中国专利 :CN112789717A ,2021-05-11

[5]

用于真空处理设备的内衬装置和真空处理设备 [P].

倪图强 ;

左涛涛 .

中国专利 :CN112071733A ,2020-12-11

[6]

用于真空处理设备的内衬装置和真空处理设备 [P].

倪图强 ;

左涛涛 .

中国专利 :CN112071733B ,2024-03-12

[7]

真空处理设备 [P].

约亨·克劳瑟 .

中国专利 :CN204644463U ,2015-09-16

[8]

真空处理设备 [P].

芦成 .

中国专利 :CN309314458S ,2025-05-30

[9]

真空处理设备和用于真空处理基底的方法 [P].

S.施维恩-托伊 ;

R.戈德 ;

M.彻西尤克 ;

M.帕德伦 .

中国专利 :CN107923037A ,2018-04-17

[10]

真空处理设备 [P].

B.肖特马斯特 ;

W.里伊茨勒 ;

R.洛德 ;

R.巴滋伦 ;

D.罗雷尔 .

中国专利 :CN103392226A ,2013-11-13

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