图案化氧化铟锡薄膜的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200710086796.7
申请日
2007-03-20
公开(公告)号
CN101145523A
公开(公告)日
2008-03-19
发明(设计)人
刘胜杰 吴子扬 潘昇良 李元榜 林耀辉
申请人
申请人地址
中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
IPC主分类号
H01L213213
IPC分类号
H01L21306 H01L21308
代理机构
北京中原华和知识产权代理有限责任公司
代理人
寿宁;张华辉
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
增进平坦化氧化铟锡薄膜的方法 [P]. 
萧调宏 .
中国专利 :CN1499652A ,2004-05-26
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董乔 .
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[3]
氧化铟锡薄膜表面粗化方法 [P]. 
李云鹏 ;
董乔 .
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[4]
一种氧化铟锡薄膜图案的制备方法 [P]. 
彭俊彪 ;
朱宇博 ;
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[5]
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金秀灿 ;
裴贤燮 ;
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朴炳圭 .
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[6]
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[7]
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[8]
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[9]
一种氧化铟锡薄膜的制备方法 [P]. 
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[10]
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郑怀文 ;
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