静电吸盘、对晶圆进行吸附的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510626723.7

申请日：

2015-09-28

公开(公告)号：

CN105097635A

公开(公告)日：

2015-11-25

发明(设计)人：

胡彬彬韩晓刚孔祥涛

申请人：

申请人地址：

201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号

IPC主分类号：

H01L21683

IPC分类号：

H01L2167

代理机构：

上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275

代理人：

吴世华;陈慧弘

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-03-29	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L 21/683 申请公布日:20151125
2015-12-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101638514680 IPC(主分类):H01L 21/683 专利申请号:2015106267237 申请日:20150928
2015-11-25	公开	公开

共 50 条

[1]

便于吸附晶圆的静电吸盘 [P].

张桂华 ;

刘畅 .

中国专利 :CN119764243B ,2025-08-08

[2]

便于吸附晶圆的静电吸盘 [P].

张桂华 ;

刘畅 .

中国专利 :CN119764243A ,2025-04-04

[3]

晶圆静电吸盘的检测方法 [P].

李岩 ;

林丰文 .

中国专利 :CN115980878B ,2025-09-12

[4]

晶圆用静电吸盘的清洁方法 [P].

刘纵曙 .

中国专利 :CN115332038B ,2025-04-25

[5]

晶圆用静电吸盘的清洁方法 [P].

刘纵曙 .

中国专利 :CN115332038A ,2022-11-11

[6]

半导体设备及提高静电吸盘吸附晶圆能力的方法 [P].

贾超超 ;

刘佑铭 .

中国专利 :CN111987030A ,2020-11-24

[7]

在静电吸盘上吸附半导体晶圆的系统及方法 [P].

P·凯勒曼 ;

S·秦 ;

W·迪韦尔吉利奥 .

中国专利 :CN100459093C ,2006-12-06

[8]

一种用于多规格晶圆吸附的静电吸盘 [P].

王建冲 ;

杨鹏远 ;

王超星 ;

张玉利 .

中国专利 :CN217387121U ,2022-09-06

[9]

一种改善晶圆在静电吸盘上吸附状态的方法 [P].

唐怡 .

中国专利 :CN112420493A ,2021-02-26

[10]

静电吸盘及晶圆刻蚀系统 [P].

王建冲 ;

杨鹏远 ;

王超星 .

中国专利 :CN221057357U ,2024-05-31

← 1 2 3 4 5 →