基板处理方法和基板处理系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110089464.4

申请日：

2021-01-22

公开(公告)号：

CN113192832A

公开(公告)日：

2021-07-30

发明(设计)人：

滨康孝新藤信明米田滋

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L213065

IPC分类号：

H01L2167 H01L21683 H01J3732

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-11-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/3065 申请日:20210122
2021-07-30	公开	公开

共 50 条

[1]

基板处理方法和基板处理系统 [P].

滨康孝 ;

新藤信明 ;

米田滋 .

日本专利 :CN113192832B ,2025-08-26

[2]

基板处理方法和基板处理系统 [P].

铃木顺也 ;

渡边将久 ;

下村晃司 .

日本专利 :CN120642046A ,2025-09-12

[3]

基板处理方法和基板处理系统 [P].

清野拓哉 ;

滨田康弘 ;

光成正 ;

金子都 .

日本专利 :CN120072639A ,2025-05-30

[4]

基板处理系统和基板处理方法 [P].

远藤宏纪 ;

中村健一郎 .

日本专利 :CN111801777B ,2024-04-09

[5]

基板处理系统和基板处理方法 [P].

田之上隼斗 .

日本专利 :CN117542753A ,2024-02-09

[6]

基板处理系统和基板处理方法 [P].

森弘明 ;

山胁阳平 ;

山下阳平 ;

中野征二 ;

守屋光彦 ;

田村武 ;

早川晋 .

日本专利 :CN119256388A ,2025-01-03

[7]

基板处理方法和基板处理系统 [P].

中根由太 ;

熊仓翔 .

日本专利 :CN119563227A ,2025-03-04

[8]

基板处理系统和基板处理方法 [P].

八谷洋介 ;

中森光则 ;

香川兴司 .

日本专利 :CN117642845A ,2024-03-01

[9]

基板处理方法和基板处理系统 [P].

小杉仁 .

日本专利 :CN119547185A ,2025-02-28

[10]

基板处理方法和基板处理系统 [P].

熊谷圭惠 ;

须田隆太郎 ;

户村幕树 ;

大内健次 ;

村上博纪 ;

加贺谷宗仁 ;

酒井宗一朗 .

中国专利 :CN114512398A ,2022-05-17

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