基板处理系统和基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202280046683.7

申请日：

2022-06-22

公开(公告)号：

CN117642845A

公开(公告)日：

2024-03-01

发明(设计)人：

八谷洋介中森光则香川兴司

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21/304

IPC分类号：

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李靖

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-03-01	公开	公开
2024-04-19	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/304申请日:20220622

共 50 条

[1]

基板处理系统和基板处理方法 [P].

远藤宏纪 ;

中村健一郎 .

日本专利 :CN111801777B ,2024-04-09

[2]

基板处理系统和基板处理方法 [P].

田之上隼斗 .

日本专利 :CN117542753A ,2024-02-09

[3]

基板处理系统和基板处理方法 [P].

森弘明 ;

山胁阳平 ;

山下阳平 ;

中野征二 ;

守屋光彦 ;

田村武 ;

早川晋 .

日本专利 :CN119256388A ,2025-01-03

[4]

基板处理方法和基板处理系统 [P].

中根由太 ;

熊仓翔 .

日本专利 :CN119563227A ,2025-03-04

[5]

基板处理方法和基板处理系统 [P].

小杉仁 .

日本专利 :CN119547185A ,2025-02-28

[6]

基板处理方法和基板处理系统 [P].

熊谷圭惠 ;

须田隆太郎 ;

户村幕树 ;

大内健次 ;

村上博纪 ;

加贺谷宗仁 ;

酒井宗一朗 .

中国专利 :CN114512398A ,2022-05-17

[7]

基板处理系统和基板处理方法 [P].

森晃一 ;

吉原贤一 ;

向井正行 .

中国专利 :CN101839644A ,2010-09-22

[8]

基板处理系统和基板处理方法 [P].

大川理 .

中国专利 :CN112514035A ,2021-03-16

[9]

基板处理系统和基板处理方法 [P].

金川耕三 ;

鹤崎广太郎 ;

隐塚惠二 ;

甲斐义广 .

中国专利 :CN112652552A ,2021-04-13

[10]

基板处理系统和基板处理方法 [P].

金川耕三 ;

鹤崎广太郎 ;

隐塚惠二 ;

甲斐义广 .

中国专利 :CN112652551A ,2021-04-13

← 1 2 3 4 5 →