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基板处理系统和基板处理方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201980048400.0
申请日：
2019-07-18
公开(公告)号：
CN112514035A
公开(公告)日：
2021-03-16
发明(设计)人：
大川理
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
H01L21306
IPC分类号：
H01L21304
代理机构：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人：
刘新宇
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2021-05-14 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/306 申请日:20190718
2021-03-16 公开 公开
共 50 条
[1]
基板处理系统和基板处理方法 [P]. 
大川理 .
日本专利 :CN112514035B ,2024-07-05
[2]
基板处理系统和基板处理方法 [P]. 
远藤宏纪 ;
中村健一郎 .
日本专利 :CN111801777B ,2024-04-09
[3]
基板处理系统和基板处理方法 [P]. 
田之上隼斗 .
日本专利 :CN117542753A ,2024-02-09
[4]
基板处理方法和基板处理系统 [P]. 
小杉仁 .
日本专利 :CN119547185A ,2025-02-28
[5]
基板处理系统和基板处理方法 [P]. 
金川耕三 ;
鹤崎广太郎 ;
隐塚惠二 ;
甲斐义广 .
中国专利 :CN112652551A ,2021-04-13
[6]
基板处理系统和基板处理方法 [P]. 
远藤宏纪 ;
中村健一郎 .
中国专利 :CN111801777A ,2020-10-20
[7]
基板处理系统和基板处理方法 [P]. 
田之上隼斗 .
中国专利 :CN112005344A ,2020-11-27
[8]
基板处理方法和基板处理系统 [P]. 
月野木涉 ;
山本雄一 .
中国专利 :CN101802978A ,2010-08-11
[9]
基板处理系统和基板处理方法 [P]. 
远藤宏纪 ;
中村健一郎 .
日本专利 :CN118398465A ,2024-07-26
[10]
基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P]. 
村元僚 ;
高桥光和 .
中国专利 :CN110137107A ,2019-08-16
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