检测窗口、化学机械抛光垫及抛光系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110834098.0

申请日：

2021-07-20

公开(公告)号：

CN113478382A

公开(公告)日：

2021-10-08

发明(设计)人：

王腾刘敏罗乙杰王淑芹杨浩林文多

申请人：

申请人地址：

430057 湖北省武汉市经济技术开发区东荆河路1号411号房

IPC主分类号：

B24B3720

IPC分类号：

B24B3704

代理机构：

代理人：

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-10-08	公开	公开
2021-10-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/20 申请日:20210720

共 50 条

[1]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[2]

化学机械抛光系统及化学机械抛光监测方法 [P].

蒋策策 ;

季文明 ;

倪震威 ;

方瑞鸿 .

中国专利 :CN112894609A ,2021-06-04

[3]

化学机械抛光系统 [P].

蒋莉 ;

李杰 ;

臧伟 .

中国专利 :CN102001035A ,2011-04-06

[4]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

田野裕之 ;

保坂幸生 ;

西村秀树 .

中国专利 :CN1864929A ,2006-11-22

[5]

化学机械抛光系统 [P].

许振杰 ;

陈祥玉 ;

王剑 ;

庞伶伶 ;

沈攀 ;

王国栋 ;

裴召辉 ;

郑全午 ;

陈映松 ;

王同庆 ;

李昆 ;

路新春 .

中国专利 :CN206105604U ,2017-04-19

[6]

化学机械抛光系统 [P].

许振杰 ;

陈祥玉 ;

王剑 ;

庞伶伶 ;

沈攀 ;

王国栋 ;

裴召辉 ;

陈映松 ;

赵德文 ;

王同庆 ;

李昆 ;

路新春 .

中国专利 :CN108698193A ,2018-10-23

[7]

化学机械抛光系统 [P].

刘立中 ;

陈逸男 ;

刘献文 .

中国专利 :CN102773787A ,2012-11-14

[8]

化学机械抛光系统 [P].

刘立中 ;

陈逸男 ;

刘献文 .

中国专利 :CN102773786A ,2012-11-14

[9]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

T·T·克韦纳克 .

中国专利 :CN101642897A ,2010-02-10

[10]

化学机械抛光垫 [P].

叶逢蓟 ;

钱百年 .

美国专利 :CN119748316A ,2025-04-04

← 1 2 3 4 5 →