一种化学气相沉积工艺用气体流量控制柜

被引：0

申请号：

CN202221342186.5

申请日：

2022-05-31

公开(公告)号：

CN218388199U

公开(公告)日：

2023-01-24

发明(设计)人：

刘超陈亮

申请人：

申请人地址：

221300 江苏省徐州市邳州市邳州经济开发区辽河路以北华山路以西半导体材料和设备产业园C2号厂房

IPC主分类号：

H05K502

IPC分类号：

B01D4610 B01D5326

代理机构：

天津煜博知识产权代理事务所(普通合伙) 12246

代理人：

林秀秀

法律状态：

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国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-01-24	授权	授权

共 50 条

[1]

一种化学气相沉积工艺用输气装置 [P].

霍艳丽 ;

陈曙光 ;

杨泰生 ;

刘海林 .

中国专利 :CN209276628U ,2019-08-20

[2]

一种用于气相沉积的流量控制柜 [P].

汪宇澄 ;

汪雨 ;

陈尚加 ;

罗滔 .

中国专利 :CN121161270A ,2025-12-19

[3]

一种化学气相沉积工艺 [P].

胡广严 ;

吴龙江 ;

林宗贤 .

中国专利 :CN108048819B ,2018-05-18

[4]

一种化学气相沉积工艺 [P].

蔡坤峯 ;

吴宗祐 ;

林宗贤 .

中国专利 :CN110331387A ,2019-10-15

[5]

一种化学气相沉积工艺 [P].

王昕昀 ;

杨杰 ;

胡广严 ;

吴龙江 ;

林宗贤 .

中国专利 :CN108866513B ,2018-11-23

[6]

一种化学气相沉积工艺排气烟囱 [P].

张伟明 ;

李晋涛 ;

刘庆磊 .

中国专利 :CN209490666U ,2019-10-15

[7]

气体流量控制柜 [P].

吴雷雷 ;

冯辉 ;

陈之敏 ;

胡程辉 ;

李仲杰 ;

刘伯兴 ;

李灿 ;

李志敏 .

中国专利 :CN110989700A ,2020-04-10

[8]

一种化学气相沉积用气体分布装置 [P].

李爽 ;

丁阳 ;

蔡村 ;

孙彪 ;

韦德远 ;

辛毓 .

中国专利 :CN218262740U ,2023-01-10

[9]

一种优化的化学气相沉积工艺 [P].

彭雨晴 ;

信吉平 .

中国专利 :CN111020536B ,2020-04-17

[10]

一种化学气相沉积工艺腔晶片传送装置 [P].

庞明磊 ;

桂鹏 .

中国专利 :CN201732776U ,2011-02-02

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