一种化学气相沉积工艺用输气装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201821840970.2

申请日：

2018-11-08

公开(公告)号：

CN209276628U

公开(公告)日：

2019-08-20

发明(设计)人：

霍艳丽陈曙光杨泰生刘海林

申请人：

申请人地址：

100024 北京市朝阳区管庄东里1号

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

代理机构：

北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348

代理人：

王伟锋;刘铁生

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-08-20	授权	授权

共 50 条

[1]

一种化学气相沉积工艺 [P].

胡广严 ;

吴龙江 ;

林宗贤 .

中国专利 :CN108048819B ,2018-05-18

[2]

一种化学气相沉积工艺 [P].

蔡坤峯 ;

吴宗祐 ;

林宗贤 .

中国专利 :CN110331387A ,2019-10-15

[3]

一种化学气相沉积工艺 [P].

王昕昀 ;

杨杰 ;

胡广严 ;

吴龙江 ;

林宗贤 .

中国专利 :CN108866513B ,2018-11-23

[4]

一种化学气相沉积工艺排气烟囱 [P].

张伟明 ;

李晋涛 ;

刘庆磊 .

中国专利 :CN209490666U ,2019-10-15

[5]

进气装置和化学气相沉积设备 [P].

袁福顺 .

中国专利 :CN111172516B ,2020-05-19

[6]

一种化学气相沉积工艺腔晶片传送装置 [P].

庞明磊 ;

桂鹏 .

中国专利 :CN201732776U ,2011-02-02

[7]

化学气相沉积设备 [P].

左敏 .

中国专利 :CN206256165U ,2017-06-16

[8]

化学气相沉积装置 [P].

鲁天豪 ;

薛运周 ;

何少龙 .

中国专利 :CN222975287U ,2025-06-13

[9]

一种化学气相沉积进气装置及气相沉积系统 [P].

邓雄志 ;

尹宜辉 ;

王建伟 ;

刘超 ;

王振兴 .

中国专利 :CN221254696U ,2024-07-02

[10]

化学气相沉积炉及化学气相沉积设备 [P].

朱伟杰 ;

顾志强 ;

戴建庭 ;

董宁 ;

李强 .

中国专利 :CN209522919U ,2019-10-22

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