聚硅氧烷单体及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980037373.7

申请日：

2019-05-31

公开(公告)号：

CN112262160A

公开(公告)日：

2021-01-22

发明(设计)人：

冈村薰

申请人：

申请人地址：

日本东京都千代田区大手町２丁目６番１号

IPC主分类号：

C08F3008

IPC分类号：

C07F710 C08F29006 C08G77388 C08G77392 C08J3075 G02C704

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：

陈巍;李志强

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-01-22	公开	公开

共 50 条

[1]

聚硅氧烷及其制造方法 [P].

根岸千幸 ;

吉川裕司 .

中国专利 :CN111315801B ,2020-06-19

[2]

聚硅氧烷及其制造方法 [P].

小川琢哉 ;

今井纮平 ;

大岛义人 .

中国专利 :CN101248106A ,2008-08-20

[3]

有机聚硅氧烷及其制造方法、含有机聚硅氧烷的化妆材料 [P].

森谷浩幸 .

中国专利 :CN103319720A ,2013-09-25

[4]

有机聚硅氧烷及其制造方法 [P].

大川直 ;

西岛一裕 ;

尼子雅章 ;

伊藤真树 ;

森田好次 .

中国专利 :CN103781824A ,2014-05-07

[5]

有机聚硅氧烷和含有有机聚硅氧烷的化妆料 [P].

森谷浩幸 ;

小西将幸 ;

安部拓矢 .

日本专利 :CN121219345A ,2025-12-26

[6]

有机聚硅氧烷、化妆品及有机聚硅氧烷的制备方法 [P].

龟井正直 .

中国专利 :CN109071822B ,2018-12-21

[7]

有机聚硅氧烷 [P].

福原和久 ;

多田清竹 ;

神馆隆史 ;

小原周一郎 ;

手岛典子 .

中国专利 :CN102597064A ,2012-07-18

[8]

分支型有机聚硅氧烷及其制造方法 [P].

金井那矢 ;

菊池宏子 .

日本专利 :CN118946571A ,2024-11-12

[9]

含有呋喃基的有机聚硅氧烷及其制造方法 [P].

藤田将史 .

日本专利 :CN117500865A ,2024-02-02

[10]

聚硅氧烷的制造方法 [P].

小仓绢子 ;

北村昭宪 .

中国专利 :CN103842412B ,2014-06-04

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