分支型有机聚硅氧烷及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380030691.7

申请日：

2023-03-22

公开(公告)号：

CN118946571A

公开(公告)日：

2024-11-12

发明(设计)人：

金井那矢菊池宏子

申请人：

信越化学工业株式会社

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

C07F7/18

IPC分类号：

代理机构：

中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038

代理人：

杜丽利

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-29	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C07F 7/18申请日:20230322
2024-11-12	公开	公开

共 50 条

[1]

有机聚硅氧烷及其制造方法 [P].

藤田将史 ;

渡边拓真 .

日本专利 :CN117616068A ,2024-02-27

[2]

有机聚硅氧烷及其制造方法、含有机聚硅氧烷的化妆材料 [P].

森谷浩幸 .

中国专利 :CN103319720A ,2013-09-25

[3]

有机聚硅氧烷 [P].

福原和久 ;

多田清竹 ;

神馆隆史 ;

小原周一郎 ;

手岛典子 .

中国专利 :CN102597064A ,2012-07-18

[4]

有机聚硅氧烷及其制造方法 [P].

大川直 ;

西岛一裕 ;

尼子雅章 ;

伊藤真树 ;

森田好次 .

中国专利 :CN103781824A ,2014-05-07

[5]

聚硅氧烷单体及其制造方法 [P].

冈村薰 .

中国专利 :CN112262160A ,2021-01-22

[6]

聚硅氧烷及其制造方法 [P].

根岸千幸 ;

吉川裕司 .

中国专利 :CN111315801B ,2020-06-19

[7]

聚硅氧烷及其制造方法 [P].

小川琢哉 ;

今井纮平 ;

大岛义人 .

中国专利 :CN101248106A ,2008-08-20

[8]

有机聚硅氧烷和含有有机聚硅氧烷的化妆料 [P].

森谷浩幸 ;

小西将幸 ;

安部拓矢 .

日本专利 :CN121219345A ,2025-12-26

[9]

含有呋喃基的有机聚硅氧烷及其制造方法 [P].

藤田将史 .

日本专利 :CN117500865A ,2024-02-02

[10]

有机聚硅氧烷及其制备方法 [P].

C·赫尔齐希 ;

H·劳滕施拉格尔 .

中国专利 :CN101233172A ,2008-07-30

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